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卡尔蔡司发行新的光掩膜注册系统

Published on September 13, 2010 at 3:42 AM

卡尔蔡司引入其光掩膜的 PROVE™注册和重叠计量学系统在 SPIE 在蒙特里/CA. PROVE™评定图象位置的光掩膜会议在与符合 32nm 技术节点的以远富挑战性的要求的优越解决方法的光掩膜和。

193nm 对下个技术节点的石版印刷进一步扩展名通过引入严格的光学接近度更正和双仿造为光掩膜注册和重叠计量学要求新的途径。

新请证明光掩膜注册和重叠计量学系统

其衍射极限,高分辨率想象光学从事在这个平版印刷的相关 193nm 波长新的 PROVE™系统在注册计量学方面打开全新的透视图。 PROVE™允许最小的生产功能的评定,无需安置对准标记。 “此实际制片人注册计量学是我们的客户的一个巨大的福利在屏蔽制造中。 第一次在历史记录,屏蔽制造商能评定和分析它确实要紧的注册。 另外,即随着解决方法的增加为 EUV 石版印刷需求,我们可以对即将发布的技术节点扩大我们的工具功能”。 解释奥利佛史东 Kienzle,半导体计量学卡尔蔡司 SMT 系统部的总经理博士。

新的系统的所有权自动聚焦和定标方法启用在 0.5nm 的反复性下和在最佳的注册评定性能的 1nm 下的准确性。

在屏蔽作家中制造 PROVE™系统用于调整模式生成程序改进模式位置结果和使在光掩膜的注册错误减到最小。 最近卡尔蔡司关于第一个工具的发运向 NuFlare Technology Inc. 报告,导致 e 射线的供应商的世界根据屏蔽作家。

本月末将提供对屏蔽界面客户的下个系统。

张贴 2010年 9月 13日,

Last Update: 12. January 2012 09:57

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