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卡爾蔡司發行新的光掩膜註冊系統

Published on September 13, 2010 at 3:42 AM

卡爾蔡司引入其光掩膜的 PROVE™註冊和重疊計量學系統在 SPIE 在蒙特里/CA. PROVE™評定圖像位置的光掩膜會議在與符合 32nm 技術節點的以遠富挑戰性的要求的優越解決方法的光掩膜和。

193nm 對下個技術節點的石版印刷進一步擴展名通過引入嚴格的光學接近度更正和雙仿造為光掩膜註冊和重疊計量學要求新的途徑。

新请證明光掩膜註冊和重疊計量學系統

其衍射極限,高分辨率想像光學從事在這個平版印刷的相關 193nm 波長新的 PROVE™系統在註冊計量學方面打開全新的透視圖。 PROVE™允許最小的生產功能的評定,无需安置對準標記。 「此實際製片人註冊計量學是我們的客戶的一個巨大的福利在屏蔽製造中。 第一次在歷史記錄,屏蔽製造商能評定和分析它確實要緊的註冊。 另外,即隨著解決方法的增加為 EUV 石版印刷需求,我們可以對即將發布的技術節點擴大我們的工具功能」。 解釋奧利佛史東 Kienzle,半導體計量學卡爾蔡司 SMT 系統部的總經理博士。

新的系統的所有權自動聚焦和定標方法啟用在 0.5nm 的反覆性下和在最佳的註冊評定性能的 1nm 下的準確性。

在屏蔽作家中製造 PROVE™系統用於調整模式生成程序改進模式位置結果和使在光掩膜的註冊錯誤減到最小。 最近卡爾蔡司關於第一個工具的發運向 NuFlare Technology Inc. 報告,導致 e 射線的供應商的世界根據屏蔽作家。

本月末將提供對屏蔽界面客戶的下個系統。

張貼 2010年 9月 13日,

Last Update: 26. January 2012 05:16

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