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应用材料公司推出Aera3光罩检测系统

Published on September 14, 2010 at 1:00 AM

应用材料公司今天宣布其应用Aera3™光罩检测系统,使光掩膜和芯片制造商,以满足22nm的最关键的缺陷检测的挑战,所有的光掩膜,利用其成熟的的空中成像技术。

开创性的应用Aera2系统的基础上,新系统由50%提高检测的灵敏度,使较小的电路功能的检查,同时提高其独特的能力,根据自己的晶圆上的影响面膜缺陷分类。在这关键的好处,使Aera3系统最快,最准确的面具资格的解决方案。

应用材料公司推出先进的22纳米和EUV光掩膜,使用证明的空中成像技术检查Aera3系统。

今天的先进光刻技术使用双图形(DP)和源面罩优化(SMO)技术面具的功能几乎没有任何相似之处承担印刷晶圆的最终格局。与传统的高分辨率检测系统使用模型来模拟晶圆上预计的面具形象,很难确定哪些缺陷是重要的。 Aera3系统的增强的空中成像技术模拟光刻扫描仪的光学系统,使用户能够立即看到如果一个缺陷会导致问题,可以放心地忽略。

Aera3系统引入了多个创新结合起来,提高检测灵敏度,包括一个更强大的光源,更小的像素尺寸,塑造先进的照明和两极分化。此外,Aera3是第一次系统检查极端紫外线光刻技术(EUVL)口罩使用照明塑造。这种反差增强技术,加上超小的67nm像素的大小,使极紫外光刻的可选模块检测为12nm的缺陷,使Aera3系统的理想工具,以支持客户的寻路EUVL发展。

“Aera3系统的基准性能,应用的过程诊断及控制部副总裁兼总经理Ronen Benzion说:”我们与世界各地的尖端面具商店的密切合作的结果,。 “系统地址为下一代口罩所有检测应用,使得一个不可或缺的工具迅速限定新的口罩,并随着时间的推移跟踪面膜质量,带来了生产率的提高整个光刻细胞。”

应用材料公司在2010年SPIE光掩膜技术会议,并在加利福尼亚州蒙特雷举行的展览将展示Aera3系统。

来源: http://www.appliedmaterials.com/

Last Update: 19. October 2011 04:09

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