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應用材料公司推出Aera3光罩檢測系統

Published on September 14, 2010 at 1:00 AM

應用材料公司今天宣布其應用 Aera3™光罩檢測系統,使光掩膜和芯片製造商,以滿足 22nm的最關鍵的缺陷檢測的挑戰,所有的光掩膜,利用其成熟的的空中成像技術。

開創性的應用 Aera2系統的基礎上,新系統由50%提高檢測的靈敏度,使較小的電路功能的檢查,同時提高其獨特的能力,根據自己的晶圓上的影響面膜缺陷分類。在這關鍵的好處,使Aera3系統最快,最準確的面具資格的解決方案。

應用材料公司推出先進的22納米和EUV光掩膜,使用證明的空中成像技術檢查 Aera3系統。

今天的先進光刻技術使用雙圖形(DP)和源面罩優化(SMO)技術面具的功能幾乎沒有任何相似之處承擔印刷晶圓的最終格局。與傳統的高分辨率檢測系統使用模型來模擬晶圓上預計的面具形象,很難確定哪些缺陷是重要的。 Aera3系統的增強的空中成像技術模擬光刻掃描儀的光學系統,使用戶能夠立即看到如果一個缺陷會導致問題,可以放心地忽略。

Aera3系統引入了多個創新結合起來,提高檢測靈敏度,包括一個更強大的光源,更小的像素尺寸,塑造先進的照明和兩極分化。此外,Aera3是第一次系統檢查極端紫外線光刻技術(EUVL)口罩使用照明塑造。這種反差增強技術,加上超小的67nm像素的大小,使極紫外光刻的可選模塊檢測為 12nm的缺陷,使Aera3系統的理想工具,以支持客戶的尋路EUVL發展。

“Aera3系統的基準性能,應用的過程診斷及控制部副總裁兼總經理 Ronen Benzion說:”我們與世界各地的尖端面具商店的密切合作的結果,。 “系統地址為下一代口罩所有檢測應用,使得一個不可或缺的工具迅速限定新的口罩,並隨著時間的推移跟踪面膜質量,帶來了生產率的提高整個光刻細胞。”

應用材料公司在2010年SPIE光掩膜技術會議,並在加利福尼亞州蒙特雷舉行的展覽將展示Aera3系統。

來源: http://www.appliedmaterials.com/

Last Update: 22. October 2011 07:29

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