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A Tecnologia do Plasma dos Instrumentos de Oxford Recebe o Pedido do Instituto da Nanotecnologia

Published on September 15, 2010 at 9:18 AM

A Tecnologia do Plasma dos Instrumentos de Oxford, o líder em sistemas gravura em àgua forte, do depósito e do crescimento, têm recebido recentemente um pedido para três gravura em àgua forte do plasma e ferramentas do depósito do Centro de Excelência em Nanoelectronics (CEN) no Instituto Indiano da Ciência (IISc) em Bangalore, Índia. As três ferramentas System100 serão situadas da facilidade avançada da nanofabricação do CEN no quarto desinfetado novo e para consistir em duas ferramentas gravura em àgua forte da Cobra de PlasmaPro™ System100 ICP e em uma ferramenta de PlasmaPro System100 PECVD.

Uma solução flexível e poderosa para processos gravura a água-forte e do depósito do plasma, a entrada carga-fechado da bolacha de System100 permite a troca rápida da bolacha, a escala a mais larga de gáss do processo e uma variação da temperatura prolongada do processo. Permitir a flexibilidade máxima do processo para o semicondutor composto, a óptica electrónica, o photonics, as aplicações de MEMS e de microfluidics, etcher do plasma de PlasmaPro System100 e ferramenta do depósito pode ter muitas configurações, incluindo as opções do ICP e do PECVD pedidas por IISc.

Os dois sistemas de ICP-RIE e os sistemas de PECVD foram configurados para a escala a mais larga dos processos exigidos em CEN, IISc, que é uma facilidade do nacional do multi-usuário. As química gravura em àgua forte incluem a capacidade para gravar o poli-silicone, o óxido de silicone, o nitreto de silicone e os uma variedade de metais. Além do que o silicone que processa, as ferramentas são configuradas igualmente para capacidade de processo do GaAs e do GaN para transistor de potência de alta velocidade, de alta freqüência. O sistema de PECVD permite o nitreto projetado esforço para sensores de MEMS, óxido da baixa temperatura e a membrana muito grossa do poli-silicone como um material estrutural para sensores com inércia.

Comentários Prof.Navakanta Bhat do Departamento da Engenharia de Comunicação Elétrica em IISc, “Nós escolhemos pedir sistemas dos Instrumentos de Oxford' para sua uniformidade superior do processo, e o nível elevado de apoio ofereceu pela empresa. Nós fomos imprimidos particularmente pelas capacidades técnicas do pessoal e de sua vontade trabalhar com seus clientes, considerando o cliente como um sócio.

Nossa facilidade nova será um de seu tipo no país com um quarto desinfetado de 14.000 sq.ft em uma construção nova (90.000 sq.ft) para o Centro para a Ciência Nano e Engenharia (CeNSE). O quarto desinfetado avançado abrigará as melhores ferramentas, abastecendo às necessidades diversas de pesquisadores, e os sistemas dos Instrumentos de Oxford' oferecem a largura dos processos e da tecnologia que da vanguarda nós precisamos. Os Instrumentos' sistemas de Oxford permitirão IISc de realizar a pesquisa da fronteira em um número de áreas, incluindo a eletrônica de Nanoscale e o MEMS e de ajudá-la a conseguir nosso alvo de criar as tecnologias que podem comercialmente ser exploradas pela indústria.”

Marque Vosloo, Vendas & o Director do Apoio ao Cliente para a Tecnologia do Plasma dos Instrumentos de Oxford é deleitado com este pedido, “Este segundo pedido em um ano dos resultados Indianos importantes de um Instituto de Investigação de nossa capacidade para encontrar nossos clientes' necessidades com tecnologia avançada e serviço, ao ter a experiência para que possam confiar em nossos produtos inovativos da classe do mundo.”

Last Update: 12. January 2012 10:58

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