Site Sponsors
  • Oxford Instruments Nanoanalysis - X-Max Large Area Analytical EDS SDD
  • Park Systems - Manufacturer of a complete range of AFM solutions
  • Strem Chemicals - Nanomaterials for R&D
Posted in | Nanofabrication

Технология Плазмы Аппаратур Оксфорда Получает Заказ От Института Нанотехнологии

Published on September 15, 2010 at 9:18 AM

Технология Плазмы Аппаратур Оксфорда, руководитель в системах etch, низложения и роста, недавно получили заказ для 3 etch плазмы и инструментов низложения от Центра Высокого профессионализма в Nanoelectronics (CEN) на Индийском Институте Науки (IISc) в Бангалоре, Индии. 3 инструмента System100 будут расположены в средства nanofabrication CEN комнату современного новую чистую и состоять из 2 инструментов etch Кобры PlasmaPro™ System100 ICP и одного инструмента PlasmaPro System100 PECVD.

Гибкое и мощное разрешение для процессов вытравливания и низложения плазмы, вход вафли System100 нагрузк-locked позволяет быстрому обмену вафли, широкийа ассортимент отростчатых газов и выдвинутому отростчатому диапазону температур. Позволять максимальной отростчатой гибкости для сложного полупроводника, оптической электроники, photonics, применений MEMS и microfluidics, etcher плазмы PlasmaPro System100 и инструмента низложения может иметь много конфигураций, включая варианты ICP и PECVD приказанные IISc.

2 системы ICP-RIE и системы PECVD были установлены для широкийа ассортимент процессов необходимы на CEN, IISc, которое средство соотечественника multi-пользователя. Химии etch включают возможность для того чтобы вытравить поли-кремний, окись кремния, нитрид кремния и разнообразие металлы. В дополнение к кремнию обрабатывая, инструменты также установлены для производительности технологического процесса GaAs и GaN для быстрого хода, высокочастотных транзисторов силы. Система PECVD включает нитрид проектированный усилием для датчиков MEMS, окиси низкой температуры и очень толщиной мембраны поли-кремния как структурный материал для инерциальных датчиков.

Комментарии Prof.Navakanta Bhat от Отдела Электрического Сообщения Инджиниринга на IISc, «Мы выбрали приказать системы Аппаратуры Оксфорда' для их главного отростчатого единообразия, и высокий уровень поддержки предложил компанией. Мы в частности были впечатлены техническими возможностями штата и их готовности работать с их клиентами, принимая во внимание клиент как соучастник.

Наше новое средство будет одним из своего вида в стране с комнатой 14.000 sq.ft чистой в новом здании (90.000 sq.ft) для Центра для Nano Науки и Инджинирингом (CeNSE). Современная чистая комната расквартирует самые лучшие инструменты, поставляя еду к разнообразным потребностям исследователей, и системы Аппаратур Оксфорда' предлагают ширину процессов и технологии ведущей кромки нам. Аппаратуры' системы Оксфорда позволят IISc унести исследование границы в нескольких зон, включая электронику Nanoscale и MEMS и помочь достигнуть нашей цели создавать технологии которые могут коммерчески быть эксплуатированы индустрией.»

Маркируйте Vosloo, Сбывания & Директор Работы с Клиентом для Технологии Плазмы Аппаратур Оксфорда услажен с этим заказом, «Этот второй заказ в годе от результатов важных Индийских Научно-исследовательского Института от нашей способности встретить наших клиентов' потребностей через передовую технологию и обслуживание, пока имеющ опыт для их, котор нужно мочь положиться на наших новаторских продуктах типа мира.»

Last Update: 12. January 2012 11:00

Tell Us What You Think

Do you have a review, update or anything you would like to add to this news story?

Leave your feedback
Submit