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Posted in | Nanofabrication

牛津儀器等離子技術接收來自納米技術研究所的訂單

Published on September 15, 2010 at 9:18 AM

牛津儀器等離子技術 ,蝕刻,沉積和生長系統的領導者,最近收到三個等離子蝕刻和沉積工具的卓越中心在納米電子學(CEN)的印度科學研究所(IISc)在印度班加羅爾,印度的順序。這三個 System100工具將位於岑的國家最先進的納米加工設施的新的潔淨室和兩個 PlasmaPro™System100 ICP備眼鏡蛇蝕刻工具和一PlasmaPro System100 PECVD反應的工具組成。

等離子體刻蝕和沉積過程的一個靈活和強大的解決方案,System100的負載鎖定晶圓項目,允許快速的晶圓交流,範圍最廣,工藝氣體和擴展過程的溫度範圍內。 PlasmaPro System100等離子蝕刻和沉積工具允許最大的化合物半導體,光電,光電,微機電系統(MEMS)和微流體應用過程中的靈活性,可以有多種配置,包括ICP和IISc有序的PECVD選項。

兩個 ICP - RIE系統和PECVD系統已配置的範圍最廣岑,IISc,這是一個多用戶的國家設施所需的進程。蝕刻化學蝕刻聚矽,氧化矽,氮化矽和多種金屬的能力。除了矽加工,工具也被配置為 GaAs和GaN的過程能力,高速度,高頻率的功率晶體管。 PECVD系統可以作為結構材料慣性傳感器的MEMS傳感器,低溫氧化物和很厚的多晶矽薄膜的設計應力氮化物。

從電氣通信工程處 IISc評論 Prof.Navakanta銖,“我們選擇為了牛津儀器的系統,其卓越的技術和均勻性,由該公司提供的支持高層次。我們印象特別深刻的技術能力的員工和他們的工作意願與他們的客戶,考慮客戶作為合作夥伴。

我們的新工廠,將其與潔淨室建設一個新的納米科學與工程中心(焚香)(90,000呎)14,000呎的國家之一。最先進的潔淨室的狀態將房子的最佳工具,滿足研究人員的不同需求,和牛津儀器的系統進程的廣度和領先的技術,我們需要提供。牛津儀器的系統將使 IISc開展在許多領域,包括納米電子和MEMS的前沿研究,並有助於實現我們的目的是創造可商業利用行業的技術。“

馬克 Vosloo,銷售和客戶支持總監牛津儀器等離子技術是這個順序很高興,“這在今年從印度的一個重要研究結果從我們的能力,以滿足客戶的需求,通過先進的技術和服務的第二順序,而他們的經驗,能夠依靠我們的創新的世界一流的產品。“

Last Update: 4. October 2011 20:53

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