SOKUDO, zum sich des Mehrfachen E-Träger Lithographie-Programms Anzuschließen

Published on September 17, 2010 at 4:59 AM

SOKUDO Co., Ltd., der Lithographiemantel/entwickeln Spur, Prozessausrüstung, Gemeinschaftsunternehmen, und CEA-Leti kündigte heute an, dass SOKUDO der neuen Industrie/der Forschung sich anschließt, die multipartnerprogramm sich VORSTELLEN, das maskless Lithographie für IS-Herstellung entwickelt.

Das dreijährige Projekt wird von CEA-Leti, das führende Französische HalbleiterForschungsinstitut geführt und auch Halbleiterhersteller TSMC und STMicroelectronics umfaßt. Es wertet eine maskless Lithographieinfrastruktur und den Gebrauch der KARTOGRAPH Lithographiehilfsmittel für hohen Durchsatz aus. Das mehrfache E-Trägerlithographie Programm umfaßt einen globalen Anflug zur Technologie, einschließlich Hilfsmitteleinschätzung, Kopieren und Prozessintegration, Datenhandhaben, Erstausführung und Kostenanalyse.

„E-Träger hat das Potenzial, eine lebensfähige Technologie für viele sub-22nm Lithographie-Prozessschichten in der Logik/in der Gießereihalbleiterherstellung zu sein,“ sagte Tadahiro Suhara, SOKUDO-Präsident und Vorstandsvorsitzende. „SOKUDO nimmt, einen umfassenden Anflug zu für Mantel vorbereitet werden/entwickelt Spurprozeßbereitschaft in den mehrfachen sub-22nm Lithographietechnologien, einschließlich Immersion ArF-Lithographieextensionen, EUV und Eträger Lithographie. Der CEA-Leti STELLEN vor sich, dass Zusammenarbeit eine fokussierte Bemühung zusammenbringt, Produktion-angemessene Eträger Lithographie, einschließlich Mehrfachverbindungsstelle zu aktivieren widerstehen Herstellertaste zu sub-22nm Verfahrensentwicklung.“

„Wir haben mit RF3 SOKUDOS Mantel-und-entwickeln Gleisanlage jahrelang gearbeitet und das VORSTELLUNGS-Programm profitiert von den starken Kenntnissen und Halterung von SOKUDO, wenn die notwendigen Prozesse entwickelt werden, um maskless Technologie zu unterstützen,“ sagte Serge Tedesco, CEA-Leti Projektleiter. „Die Erfahrung von CEA-Leti in Eträger Technologie, die mit SOKUDO kombiniert wird, Mantel-und-entwickeln Spursachkenntnis hilft sicher der notwendigen Prozessinfrastruktur für multi Eträger Lithographie.“

KARTOGRAPH Lithographie B.V., angesiedelt in Delft, die Niederlande, stellt Masklesslithographie Maschinen für die Halbleiterindustrie her. Sie unterstützt das VORSTELLUNGS-Projekt mit seinen enorm parallelen Elektronträger Plattformen.

Quelle: http://www.leti.fr/

Last Update: 12. January 2012 09:23

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