Site Sponsors
  • Park Systems - Manufacturer of a complete range of AFM solutions
  • Strem Chemicals - Nanomaterials for R&D
  • Oxford Instruments Nanoanalysis - X-Max Large Area Analytical EDS SDD

SOKUDO som Sammanfogar Multipel, E-Strålar LithographyProgram

Published on September 17, 2010 at 4:59 AM

SOKUDO Co., Ltd., lithographyen täcker/framkallar spårar, processaa utrustning, samarbetsbolagföretag, och CEA-Leti meddelade i dag att ska SOKUDO sammanfogar den nya branschen/forskningmång--partnern som programet FÖRESTÄLLER, som framkallar maskless lithography för fabriks- IC.

Tre-året projekterar är ledde vid CEA-Leti, det ledande Franska halvledareforskningsinstitut och inkluderar också halvledareproducentTSMC och STMicroelectronics. Det utvärderar en maskless lithographyinfrastruktur, och bruket av MAPPERLithography bearbetar för kickgenomgång. Det multipele-stråla-lithography programet täcker ett globalt att närma sig till teknologin, däribland bearbetar bedömning och att mönstra och bearbetar integration, databruk, prototyping och kostar analys.

”E-Stråla har det potentiellt som är en livsduglig teknologi för många processaa lagrar för sub--22nmlithography i logik/den fabriks- gjuterihalvledaren,”, sade Tadahiro Suhara, SOKUDO-president och VD. ”Tar SOKUDO ett omfattande att närma sig till att vara förberedd för täcker/framkallar spårar processaa readiness i lithographyteknologier för multipeln sub-22nm, inklusive f8orlängningar för immersionArF lithography, EUV och e-strålar lithography. CEAen-Leti FÖRESTÄLLER att samarbete kommer med tillsammans ett fokuserat försök att möjliggöra produktion-värdigt e-strålar lithography, den inklusive multipeln motstår producenter som är nyckel- till processaa utveckling för sub-22nm.”,

”Har Vi varit funktionsdugliga med SOKUDOS RF3 täcka-och-framkallar spårar systemet för många år, och det ska FÖRESTÄLLAprogramet gynnar från den starka kunskapen, och service av SOKUDO, i framkallning det nödvändigt, bearbetar för att stötta maskless teknologi,”, sade Serge Tedesco, CEA-Leti programmerar chefen. ”E-strålar erfara av CEA-Leti in teknologi som kombineras med SOKUDO, täcka-och-framkallar spårar sakkunskap ska hjälp säkrar den nödvändiga processaa infrastrukturen för mång- e-strålar lithography.”,

MAPPERLithography B.V. som baseras i Delft, Nederländerna, gör maskless-lithography bearbetar med maskin för halvledarebranschen. Den är understödja IMAGINE projekterar med dess parallell elektron-strålar kraftigt plattformar.

Källa: http://www.leti.fr/

Last Update: 26. January 2012 14:07

Tell Us What You Think

Do you have a review, update or anything you would like to add to this news story?

Leave your feedback
Submit