SOKUDO加入多个电子束光刻计划

Published on September 17, 2010 at 4:59 AM

外套/发展轨道,光刻工艺设备,SOKUDO有限公司,有限公司,合资公司,以及CEA - LETI今天宣布,SOKUDO将加入新的产业/研究多的合作伙伴计划想像,是发展IC制造无掩膜光刻。

为期三年的项目,由CEA - LETI,领先的法国半导体研究所,还包括半导体制造商台积电和意法半导体。这是评估一个无掩膜光刻基础设施和高吞吐量MAPPER光刻工具的使用。多重电子束光刻计划涵盖了全球的技术方法,包括评估工具,图案和流程的整合,数据处理,原型制作与成本分析。

“电子束有可能是一个可行的技术为许多亚22纳米光刻技术在逻辑/晶圆代工半导体制造过程层,说:”忠Suhara,SOKUDO总裁兼首席执行官。 “SOKUDO正在采取全面的方法来准备外套/发展轨道,在多个子22纳米的光刻技术,包括浸泡的ArF光刻扩展,EUV和电子束光刻过程准备。 CEA - Leti的想象合作,汇集了集中努力,使生产价值的电子束光刻,包括多个抵制厂家分22nm制程的发展的关键。“

“我们一直与SOKUDO的RF3大衣和发展的轨道系统工作多年,和的IMAGINE方案将受益的强大的知识和制定支持无掩模技术的必要的程序支持的SOKUDO,”说塞尔特德斯科,CEA - LETI项目经理。 “CEA - LETI的电子束技术的经验结合SOKUDO的外套和发展轨道的专业知识,多电子束光刻,将有助于确保必要的程序基础设施。”

MAPPER光刻BV,总部设在荷兰代尔夫特,使半导体产业的无掩膜光刻机。这是支持IMAGINE凭借大规模平行电子束平台项目。

来源: http://www.leti.fr/

Last Update: 7. October 2011 05:30

Tell Us What You Think

Do you have a review, update or anything you would like to add to this news story?

Leave your feedback
Submit