SOKUDO加入多個電子束光刻計劃

Published on September 17, 2010 at 4:59 AM

外套/發展軌道,光刻工藝設備,SOKUDO有限公司,有限公司,合資公司,以及CEA - LETI今天宣布,SOKUDO將加入新的產業 /研究多的合作夥伴計劃想像,是發展 IC製造無掩膜光刻。

為期三年的項目,由CEA - LETI,領先的法國半導體研究所,還包括半導體製造商台積電和意法半導體。這是評估一個無掩膜光刻基礎設施和高吞吐量MAPPER光刻工具的使用。多重電子束光刻計劃涵蓋了全球的技術方法,包括評估工具,圖案和流程的整合,數據處理,原型製作與成本分析。

“電子束有可能是一個可行的技術為許多亞 22納米光刻技術在邏輯 /晶圓代工半導體製造過程層,說:”忠Suhara,SOKUDO總裁兼首席執行官。 “SOKUDO正在採取全面的方法來準備外套/發展軌道,在多個子22納米的光刻技術,包括浸泡的ArF光刻擴展,EUV和電子束光刻過程準備。 CEA - Leti的想像合作,匯集了集中努力,使生產價值的電子束光刻,包括多個抵制廠家分22nm制程的發展的關鍵。“

“我們一直與 SOKUDO的RF3大衣和發展的軌道系統工作多年,和的IMAGINE方案將受益的強大的知識和制定支持無掩模技術的必要的程序支持的SOKUDO,”說塞爾特德斯科,CEA - LETI項目經理。 “CEA - LETI的電子束技術的經驗結合 SOKUDO的外套和發展軌道的專業知識,多電子束光刻,將有助於確保必要的程序基礎設施。”

MAPPER光刻BV,總部設在荷蘭代爾夫特,使半導體產業的無掩膜光刻機。這是支持IMAGINE憑藉大規模平行電子束平台項目。

來源: http://www.leti.fr/

Last Update: 7. October 2011 12:48

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