Posted in | Nanofabrication

Sistema Aplicado del Grabado De Pistas del Photomask del Lanzamiento de los Materiales para la Litografía 22nm

Published on September 27, 2010 at 10:13 PM

Los Materiales Aplicados pusieron en marcha hoy su nuevo Tetra sistema Avance X Aplicado del Grabado De Pistas del Retículo de Centura - el único sistema capaz de grabar el ácido los photomasks necesarios para las capas más desafiadoras del dispositivo de los clientes en 22nm y más allá.

Desplegando las capacidades de la Tetra plataforma III del estándar industrial Aplicado, el Tetra X rompe la barrera crítica de la uniformidad de la dimensión (CDU) 2nm a través de todas las tallas de característica - entregando la exactitud crítica de la máscara que puede permitir a fabricantes de la máscara exceder los requisitos más estrictos del modelo-a-pliego de condiciones de sus clientes para todos los tipos de dispositivo.

El nuevo Tetra X de los Materiales Aplicados grabado de pistas de la máscara de Centura es el único sistema capaz de grabar el ácido los photomasks necesarios para modelar las capas más críticas del dispositivo de los fabricantes del semiconductor en 22nm y más allá. (Foto: Business Wire)

la “Siguiente-Generación que las técnicas de la litografía ponen enormes demandas en la máscara donde está crucial la exactitud del modelo,” dijo a Ajay Kumar, vicepresidente y director general división de producto Aplicado de la Máscara y del Grabado De Pistas TSV1. “Solamente el Tetra sistema de X entrega la tecnología necesaria lograr esta exactitud, permitiendo a los fabricantes de chips optimizar la capacidad de proceso de la litografía para sus virutas de ejecución más altas de la memoria y de lógica. Este sistema avanzado, que se ha calificado ya para la producción 22nm en un departamento de cabeza de la máscara, demuestra nuestra consolidación continuada a proveer de clientes del photomask tecnología de calidad mundial del grabado de pistas.”

El funcionamiento de la uniformidad del Tetra sistema de X activa únicamente la resolución aumentada de la litografía para las técnicas de optimización exigentes el doble-modelar y (SMO) de la fuente-máscara entregando el grabado de pistas altamente uniforme, lineal a través de todas las tallas de características y densidades del modelo mientras que mantiene defectivity del virtually-zero. El Tetra sistema de X emplea una amplia gama de aumentos de sistema, incluyendo propietario, tecnología del control de procesos operativos en tiempo real para activar la máscara dura de la siguiente-generación, MoSi2 opaco, y los procesos del grabado de pistas del cuarzo usados para fabricar el binario y photomasks avanzados del desplazamiento de fase.

Los Tetra sistemas Aplicados han sido utilizados por los fabricantes de la máscara por todo el mundo para grabar el ácido a la gran mayoría de máscaras de gama alta durante los cinco años pasados incluyendo virtualmente cada máscara del nodo 32nm y del revelado EUVL3. Para más información, visita www.appliedmaterials.com/products/photomask_etch_4.html.

Applied Materials, Inc. (Nasdaq: AMAT) es el arranque de cinta global en proporcionar al equipo innovador, a servicios y a software para activar la manufactura del semiconductor avanzado, de la pantalla plana y de los productos fotovoltaicos solares. Nuestras tecnologías ayudan a hacer innovaciones como smartphones, la pantalla plana TV y los paneles solares más asequibles y accesibles a los consumidores y a los asuntos en todo el mundo. En los Materiales Aplicados, giramos innovaciones de hoy en las industrias de mañana. Aprenda más en www.appliedmaterials.com.

Last Update: 12. January 2012 04:13

Tell Us What You Think

Do you have a review, update or anything you would like to add to this news story?

Leave your feedback
Submit