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Posted in | Nanofabrication

Sistema Applicato Incissione All'acquaforte del Photomask del Lancio dei Materiali per Litografia 22nm

Published on September 27, 2010 at 10:13 PM

I Materiali Applicati oggi hanno lanciato il suo nuovo Tetra sistema Applicato Incissione All'acquaforte del Reticolo Avanzato X di Centura - il solo sistema capace dell'incidere dei photomasks stati necessari per i livelli dell'unità più provocatori dei clienti a 22nm e di là.

Ampliando le capacità di Tetra piattaforma III dello standard industriale Applicato, la Tetra X eliminare la barriera critica dell'uniformità di dimensione (CDU) 2nm attraverso tutte le feature size - consegnando l'accuratezza critica della maschera che può permettere ai creatori della maschera di superare i requisiti della reticolo--specifica più rigorosi dei loro clienti di tutti i tipi di unità.

Nuova Tetra X dei Materiali Applicati incissione all'acquaforte della maschera del Centura è il solo sistema capace dell'incidere dei photomasks stati necessari per modellare i livelli dell'unità più critici dei produttori a semiconduttore a 22nm e di là. (Foto: Business Wire)

“Le tecniche Di prossima generazione della litografia collocano le domande tremende sulla maschera in cui l'accuratezza del reticolo è cruciale,„ hanno detto Ajay Kumar, vice presidente e direttore generale divisione di prodotto Applicato Incissione All'acquaforte TSV1 e della Maschera. “Soltanto il Tetra sistema di X consegna la tecnologia necessaria per raggiungere questa accuratezza, permettendo ai chipmaker di ottimizzare la capacità trattata della litografia per i loro più alti chip d'esecuzione di logica e di memoria. Questo sistema avanzato, che già è stato qualificato per produzione 22nm ad un reparto principale della maschera, dimostra il nostro impegno continuato a fornire ai clienti del photomask la tecnologia di livello internazionale incissione all'acquaforte.„

La prestazione dell'uniformità del Tetra sistema di X permette unicamente alla risoluzione migliorata della litografia per le tecniche di ottimizzazione esigenti della sorgente-maschera e (SMO) di doppio modello consegnando incissione all'acquaforte altamente costante e lineare attraverso tutte le dimensioni di funzionalità e le densità del reticolo mentre mantiene il defectivity di virtually-zero. Il Tetra sistema di X impiega una vasta gamma di potenziamenti di sistema, compreso il proprietario, la tecnologia in tempo reale di video trattato per permettere alla maschera dura di prossima generazione, MoSi2 opaco ed i trattamenti incissione all'acquaforte del quarzo usati per da costruzione i photomasks avanzati di sfasamento e del file binario.

I Tetra sistemi Applicati sono stati usati dai creatori della maschera universalmente per incidere la vasta maggioranza delle maschere di qualità superiore durante gli ultimi cinque anni compreso virtualmente ogni maschera di vertice 32nm e dello sviluppo EUVL3. Per più informazioni, visita www.appliedmaterials.com/products/photomask_etch_4.html.

Applied Materials, Inc. (Nasdaq: AMAT) è la guida globale nella fornitura le attrezzature innovarici, i servizi e del software per permettere alla lavorazione di semiconduttore avanzato, di schermo piatto e di prodotti fotovoltaici solari. Le Nostre tecnologie contribuiscono a fare le innovazioni come gli smartphones, lo schermo piano TV ed i pannelli solari più accessibili ed accessibili ai consumatori ed ai commerci intorno al mondo. Ai Materiali Applicati, trasformiamo le odierne innovazioni nelle industrie di domani. Impari più a www.appliedmaterials.com.

Last Update: 12. January 2012 04:42

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