Site Sponsors
  • Oxford Instruments Nanoanalysis - X-Max Large Area Analytical EDS SDD
  • Strem Chemicals - Nanomaterials for R&D
  • Park Systems - Manufacturer of a complete range of AFM solutions
Posted in | Nanofabrication

22nm 石版印刷のための応用材料の進水のフォトマスクの腐食システム

Published on September 27, 2010 at 10:13 PM

応用材料は今日新しい応用 Centura の Tetra X によって進められたレチクルの腐食システム - 顧客ののそして向こう最も挑戦的な装置層 22nm のために必要とされたフォトマスクをエッチングすることができる唯一のシステム -- を進水させました。

応用業界標準の Tetra III プラットホームの機能を拡大して、 Tetra X はすべての形状を渡る 2nm (CDU) 重大な次元の均等性の障壁を壊しま - マスクメーカーが彼らの顧客ですべての装置タイプのための最も厳密なパターンに指定の条件を超過することを可能にすることができる重大なマスクの正確さを提供します。

応用材料の新しい Centura Tetra X マスクの腐食は半導体の製造業者ののそして向こう最も重大な装置層を 22nm 模造するのに必要とされるフォトマスクをエッチングすることができる唯一のシステムです。 (写真: ビジネスワイヤー)

「次世代の石版印刷の技術パターンの正確さが重大であるマスクに途方もない要求を」、は言いました Ajay Kumar、副大統領および応用マスクおよび TSV1 腐食のの総務部長を製品事業部置きます。 「Tetra X システムだけこの正確さを達成するのに必要な技術を提供しま最も高い実行メモリおよび論理チップのための石版印刷のプロセスケイパビリティを最適化することをチップメーカーが可能にします。 一流マスクの店の 22nm 生産のために既に修飾されてしまったこの最新式システムは国際的レベルの腐食の技術をフォトマスクの顧客に与えることに示します私達の継続的責任を」。

Tetra X システムの均等性パフォーマンスはすべての形状を渡る非常に均一の、線形腐食およびパターン (SMO)密度の提供によって一義的に virtually-zero の defectivity を維持している間デマンドが高い二重模造およびソースマスクの最適化技法のための高められた石版印刷の解像度を可能にします。 Tetra X システムは所有物、次世代の堅いマスクを、不透明な MoSi2 可能にするために技術を監察する実時間プロセスおよび高度のバイナリおよび位相ずれのフォトマスクを製造するのに使用される水晶腐食プロセスを含むシステム機能拡張の広い範囲を、用います。

マスクメーカーによって応用 Tetra システムが事実上あらゆる 32nm ノードおよび EUVL3 開発マスクを含む最後の 5 年にわたる大部分のハイエンドマスクをエッチングするのに世界的に使用されていました。 より多くの情報のため、訪問 www.appliedmaterials.com/products/photomask_etch_4.html。

Applied Materials、 Inc. (NASDAQ: AMAT は) 高度の半導体の製造を可能にするために革新的な装置の、サービスおよびソフトウェアフラットパネルディスプレイおよび太陽光起電製品提供の全体的なリーダーです。 私達の技術は世界中で消費者およびビジネスにとってより現実的で、アクセス可能な smartphones、フラットスクリーン TV および太陽電池パネルのような革新をするのを助けます。 応用材料で、私達は明日の企業に今日の革新を回します。 www.appliedmaterials.com で多くを学んで下さい。

Last Update: 12. January 2012 04:44

Tell Us What You Think

Do you have a review, update or anything you would like to add to this news story?

Leave your feedback
Submit