Site Sponsors
  • Oxford Instruments Nanoanalysis - X-Max Large Area Analytical EDS SDD
  • Strem Chemicals - Nanomaterials for R&D
  • Park Systems - Manufacturer of a complete range of AFM solutions
Posted in | Nanofabrication

De Toegepaste Lancering Photomask van Materialen Etst Systeem voor de Lithografie van 22nm

Published on September 27, 2010 at 10:13 PM

De Toegepaste Materialen lanceerden vandaag zijn nieuwe Toegepaste Centura het TetraX Geavanceerde Dradenkruis systeem - het enige systeem geschikt Etst om photomasks te etsen nodig voor opwindendste het apparatenlagen van klanten bij 22nm en verder.

Uitbreidt de mogelijkheden van Toegepast industrie-standaard Tetra III platform, breekt TetraX de 2nm kritieke barrière van de afmetings (CDU)uniformiteit over alle eigenschapgrootte - leverend de kritieke maskernauwkeurigheid die maskermakers kan toelaten om de patroon-aan-specificatie van hun klanten striktste eisen ten aanzien van alle apparatentypes te overschrijden.

Toegepaste nieuwe Centura van Materialen het Tetramasker van X etst is het enige systeem geschikt om photomasks te etsen nodig aan patroonhalfgeleiders kritiekste het apparatenlagen van fabrikanten bij 22nm en verder. (Foto: Business Wire)

„De de lithografietechnieken van de volgende-Generatie plaatsen enorme eisen op het masker waar de nauwkeurigheid van het patroon essentieel is,“ bovengenoemde Ajay Kumar, Etsen de ondervoorzitter en de algemene manager van Toegepaste Masker en TSV1 productafdeling. „Slechts het Tetrasysteem van X de technologie noodzakelijk levert om deze nauwkeurigheid te bereiken, toelatend chipmakers om het vermogen van het lithografieproces voor hun hoogste het presteren geheugen en logicaspaanders te optimaliseren. Dit overzichtssysteem, dat reeds voor 22nm productie bij een belangrijke maskerwinkel is gekwalificeerd, toont aan onze voortdurende verplichting aan het voorzien van photomask klanten van van wereldklasse technologie.“ etst

De de uniformiteitsprestaties van het Tetrasysteem van X laten uniek verbeterde lithografieresolutie voor het eisen van dubbel-vormt toe en de bron-masker optimaliserings (SMO)technieken door hoogst eenvormig te leveren, lineair etsen over alle eigenschappengrootte en patroondichtheid terwijl het handhaven van vrijwel-gecentreerde defectivity. Het Tetrasysteem van X wendt een brede waaier van systeemverhogingen aan, met inbegrip van merkgebonden, in real time proces controletechnologie om het volgende-generatie harde masker, ondoorzichtige MoSi2 toe te laten, en die het kwarts etst processen worden gebruikt om geavanceerde binair getal en faseverschuiving te vervaardigen photomasks.

De Toegepaste Tetrasystemen zijn gebruikt door maskermakers wereldwijd om de overgrote meerderheid van high-end maskers in de loop van de laatste vijf jaar met inbegrip van vrijwel elk 32nm knoop en EUVL3 ontwikkelingsmasker te etsen. Voor meer informatie, bezoek www.appliedmaterials.com/products/photomask_etch_4.html.

Toegepaste Materialen, Inc. (Nasdaq: AMAT) is de globale leider in het verlenen van innovatieve apparatuur, de diensten en software om de vervaardiging van geavanceerde halfgeleider toe te laten, vlak paneelvertoning en zonne photovoltaic producten. Onze technologieën helpen innovaties zoals smartphones, vlakke het schermTVs en zonnepanelen meer betaalbaar en maken toegankelijk voor consumenten en ondernemingen rond de wereld. Bij Toegepaste Materialen, veranderen wij de innovaties van vandaag in de industrieën van morgen. Leer meer in www.appliedmaterials.com.

Last Update: 12. January 2012 04:35

Tell Us What You Think

Do you have a review, update or anything you would like to add to this news story?

Leave your feedback
Submit