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Posted in | Nanofabrication

22nm 石版印刷的应用的材料生成光掩膜铭刻系统

Published on September 27, 2010 at 10:13 PM

应用的材料今天发行了其新的应用的 Centura 四 X 提前的调制盘铭刻系统 - 唯一的系统能够铭刻为在 22nm 的以远客户的最富挑战性的设备层需要的光掩膜和。

扩展应用的工业标准四 III 平台的功能,四 X 冲破在所有功能大小间的 (CDU) 2nm 重要维数均一障碍 - 提供可能使屏蔽制造商超出他们的所有设备类型的客户的最严格的模式对说明需求的重要屏蔽准确性。

应用的材料的新的 Centura 四 X 屏蔽铭刻是唯一的系统能够铭刻必要的光掩膜仿造在 22nm 的以远半导体制造商的最重要的设备层和。 (照片: 企业电汇)

“下一代石版印刷技术在这个模式的准确性是关键的屏蔽安置极大的需求”,说 Ajay Kumar,副总统和总经理应用的屏蔽和 TSV1 铭刻产品部。 “仅四 X 系统提供必要的技术达到此准确性,使芯片制造商优选他们的最高的执行的内存和逻辑芯片的石版印刷加工能力。 此科技目前进步水平系统,在 22nm 生产已经合格了在一个主导的屏蔽界面,对提供光掩膜客户表示我们持续的承诺以国际水平的铭刻技术”。

四 X 系统的均一性能通过提供高度在所有功能大小间的统一,线性铭刻 (SMO)和模式密度唯一地启用过分要求的二重仿造和来源屏蔽优化技术的改进的石版印刷解决方法,当维护 virtually-zero defectivity 时。 四 X 系统使用各种各样的系统改进,包括业主、实时进程监控技术的启用下一代困难屏蔽,不透明的 MoSi2 和石英用于的铭刻进程制造先进的双和移相光掩膜。

屏蔽制造商用于应用的四系统全世界铭刻绝大多数的高端屏蔽在过去五年期间包括实际上每 32nm 节点和 EUVL3 发展屏蔽。 对于更多信息,访问 www.appliedmaterials.com/products/photomask_etch_4.html。

Applied Materials, Inc. (那斯达克:AMAT) 是在提供创新设备的全球领导先锋、服务和软件启用先进的半导体制造,平板显示器和太阳光致电压的产品。 我们的技术帮助做象智能手机、平面屏幕电视和太阳电池板的创新价格合理和可访问对消费者和企业环球。 在应用的材料,我们把今天创新变成行业明天。 了解更多在 www.appliedmaterials.com。

Last Update: 12. January 2012 04:33

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