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El Grupo de EV Revela Tecnología Molecular Suave de la Litografía de Nanoimprint de la Escala

Published on October 14, 2010 at 5:29 AM

El Grupo de EV (EVG), un surtidor de cabeza del equipo de la vinculación y de la litografía del fulminante para el MEMS, nanotecnología y mercados del semiconductor, revelaron hoy una capacidad de la nueva tecnología que activa modelar de la ultra-alto-resolución de características hacia abajo a 12,5 nanómetro: Litografía Molecular Suave de Nanoimprint de la Escala (SMS-NIL).

De Acuerdo con los sistemas probados del UV-NIL de EVG, SMS-NIL provee de clientes un proceso repetible, de poco costo para producir la ultra-alto-resolución que modela en superficies de la área extensa.  Usando el proceso de trabajo suave del nanoimprint del sello de la nueva tecnología, los clientes pueden realizar nanoimprints del completo-área y UV-NIL ópticamente alineado en el equipo existente de EVG.  Asimismo, el sello y la impresión se pueden tramitar en la misma herramienta sin requerir a los clientes de tramitación adicionales tiempo de procesamiento importante y dinero del paso de progresión-ahorro.

UV-NIL ofrece un coste de elaboración importante más inferior que otras técnicas nano-que modelan, haciendo le una solución atractiva para los sensores de la imagen del CMOS, moldura micra del lente y otras aplicaciones ópticas donde la tecnología se está utilizando ya.  SMS-NIL toma a esta aproximación una medida más lejos, empleando el trabajo polimérico suave estampa para evitar sellos principales costosos perjudiciales.  Las propiedades inherentes del material del sello reducen grandemente el riesgo de daño mecánico a los modelos principales, así prolongando su curso de la vida.  El trabajo estampó energía superficial relativamente inferior facilita la separación del substrato después del proceso de impresión, mientras que su adaptabilidad permite que los sellos sean utilizados para las impresiones múltiples.

Gerald Kreindl, Director de producto para la litografía del nanoimprint en el Grupo de EV, dijo, “Para más de 10 años, hemos mantenido un enfoque fuerte de la tecnología en la litografía del nanoimprint y grabar caliente.  SMS-NIL es la culminación de nuestros esfuerzos de dirigir los retos de los clientes en esta área creando la ultra-alto-resolución modelando que necesitan en un proceso que sea repetible y muestre la gran promesa para la fabricación en grandes cantidades de poco costo.  Esta capacidad de la nueva tecnología es otro paso de progresión en la misión del Grupo de EV para aumentar nuestras soluciones existentes de la tecnología mientras que persigue la investigación y desarrollo punta para los nuevos productos y las aplicaciones.  Esta introducción de la tecnología es también un paso de progresión importante en la comercialización de la litografía como barato, alto-producción, técnica del nanoimprint de la litografía de la ultra-alto-resolución.”

El Grupo de EV ofrece dos opciones flexibles de la compra para SMS-NIL.  Los Clientes que están interesados en producir el trabajo estampan interno pueden comprar servicios de la consulta de la tecnología de proceso del Grupo de EV para activar su propio desarrollo de aplicaciones.  El Grupo de EV también ofrece la opción de comprar los sellos de trabajo listos para tramitar.  La nueva tecnología es compatible con los sistemas de impresión Ultravioleta-basados probados de EVG, incluyendo el Alineador de EVG620, de EVG6200, del ÍNDICE DE INTELIGENCIA y EVG770.

Se invita a Ésos interesados en el aprendizaje más sobre la tecnología del SMS-NIL de EVG y la cartera amplia del equipo de la vinculación y de la litografía del fulminante que visiten a la compañía durante la Novena Conferencia Internacional sobre la Tecnología de Nanoimprint y de Nanoprint (NNT), el 13-15 de octubre de 2010, en el Primer Hotel Skt. Petri, Copenhague, Dinamarca.

Fuente: http://www.EVGroup.com/

Last Update: 12. January 2012 19:42

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