EV のグループは柔らかい分子スケールの Nanoimprint の石版印刷の技術のベールを取ります

Published on October 14, 2010 at 5:29 AM

EV のグループ (EVG)、 MEMS のナノテクノロジーおよび半導体の市場のためのウエファーの結合および石版印刷装置の一流の製造者は、今日 12.5 nm に機能の超高解像度の模造を可能にする新技術の機能のベールを取りました: スケールの Nanoimprint の柔らかい分子石版印刷 (SMS-NIL)。

EVG の証明された UV-NIL システムに基づいて、 SMS-NIL は大き領域の表面で模造する超高解像度を作り出すために反復可能な、費用有効プロセスを顧客に与えます。  新技術の柔らかい働くスタンプの nanoimprint プロセスを使用して、顧客はある EVG 装置の全領域の nanoimprints そして光学的に一直線に並べられた UV-NIL を行うことができます。  同様に、スタンプおよび捺印は同じツールで追加処理のステップセービングの顧客重要な処理時間およびお金を必要としないで処理することができます。

UV-NIL はそれ魅力的な解決を、マイクロレンズの鋳造物および技術が既に使用されている他の光学アプリケーションにする CMOS の画像センサーのための他の nano 模造の技術よりかなり低い加工費を提供します。  SMS-NIL はこのアプローチにステップを更に踏みま、柔らかい重合体に働くことを押します有害で高価なマスターのスタンプを避けるために用います。  従ってスタンプ材料の固有の特性はマスターのテンプレートへの機械損傷の危険を非常に減らしま、寿命を拡張します。  働くことは捺印プロセスの後で柔軟性はスタンプが多重押印に使用するようにするが、比較的低い表面エネルギーを促進します基板からの分離を押しました。

以上 10 年、私達が nanoimprint の石版印刷および熱い浮彫りになることの強い技術の焦点を維持したジェラルド Kreindl、 EV のグループの nanoimprint の石版印刷のためのプロダクトマネージャーはのために、 「言いました。  SMS-NIL は超高解像度の作成によってこの領域の顧客の挑戦をアドレス指定するための私達の努力の子午線通過です模造して反復可能、費用有効大量の製造業のための大きい約束を示すプロセスで必要とする。  この新技術の機能は新製品およびアプリケーションのための最先端の研究開発を追求している間私達の既存の技術の解決を高める EV のグループの代表団のもう一つのステップです。  この技術の紹介はまた低価格としてです nanoimprint の石版印刷、高スループット、超高解像度の石版印刷の技術の商業化の重要なステップ」。

EV のグループは SMS-NIL のための 2 つの適用範囲が広い購入オプションを提供します。  働くことの作成に興味がある顧客は社内にことができます彼らの自身のアプリケーション開発を可能にするために EV のグループの加工技術のコンサルタント業サービスを購入する押します。  EV のグループはまた処理の準備ができた働くスタンプの購入のオプションを提供します。  新技術は EVG620、 EVG6200、 I.Q. のアライナおよび EVG770 を含む EVG の証明された紫外線ベースの捺印システムと互換性があります。

EVG のウエファーの結合および石版印刷装置の SMS-NIL の技術そして広いポートフォリオについての詳細の学習に興味を起こさせられるそれらは最初ホテル Skt で Nanoimprint および Nanoprint の技術 (NNT) の第 9 国際会議の間に会社を、 2010 年 10 月 13-15 日、訪問するように誘われます。 ペトリ、コペンハーゲン、デンマーク。

ソース: http://www.EVGroup.com/

Last Update: 12. January 2012 10:50

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