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Neue Photolithographie-Technologie von Eulitha für Fälschung von Photonischem Nanostructures

Published on October 18, 2010 at 7:11 PM

Eulitha AG, eine Schweizer basierte nanolithography Firma, hat eine eigene photolithographietechnologie für preiswerte und Hochdurchsatz Fälschung von photonischen nanostructures entwickelt. Dieses löst ein bedeutendes laufendes Problem, das in der Fälschung von hochauflösenden photonischen Zellen gegenübergestellt wird, da Standardphotolithographiegerät entweder die erforderliche Auflösung ermangelt, oder seine Kosten kostspielig hoch sind.

Die patentierte Technologie aktiviert die Entstehung von periodischen nanostructures über großen Gebieten für solche Anwendungen wie LED, Solarzellen und Flachbildschirme.

Die neue Technologie, zurichtetes PHABLE (für Photonics-Enabler), ist eine maskengesteuerte UVlithographie. Anders Als zur Zeit verfügbare Technologien bildet die PHABLE-Anlage ein Bild, das praktisch unbegrenzte Schärfentiefe hat. Deshalb nicht-flache Substratflächen, wie LED-Wafers, können gleichmäßig und reproduzierbar kopiert werden. Sie erlaubt auch Kombinationen von verschiedenen Mustern wie linearen optischen Rastern und Reihen Löchern auf den sechseckigen oder quadratischen unter Verwendung einer Einzelaufnahme auf ein Chip oder einen Wafer gedruckt zu werden Gitter. Die Auflösung der Druckmerkmale kann wie ein viertel der Beleuchtungswellenlänge so klein sein. Die Masken, die durch PHABLE benötigt werden, können unter Verwendung Standard-Chrom-aufquarz Maskeschreiben Technologie billig produziert werden. Die Technologie wird bei der Konferenz MNC 2010 in Fukuoka, Japan, zwischen 9. bis 12. November 2010 dargestellt.

Die Photonischen Kristalle, die für die Vergrößerung des hellen Abscheidegrads von LED benötigt werden, ist eine der bedeutenden Anwendungen der neuen Technologie. Anders Als die Nanoimprint-Methode, die geläufig zu diesem Zweck eingesetzt wird, vermeidet sie Kontakt zwischen der Maske und dem Wafer, und sie benötigt nicht verbrauchbare Weichstempel. Deshalb wird ein teurer zweistufiger Prozess vermieden. Es wird erwartet, dass andere Anwendungen auch groß von dieser Entwicklung, einschließlich nanowire-basierte LED und photo-voltaischen die Einheiten profitieren, die auf kopierten Silikonsubstratflächen und Epitaxial- seitlichen der Überwuchterung verwendet wird (ELO) in BlauRay-Lasern heteroepitaxy sind. Kabel-Gitter Polarisatoren, wie erforderlich für LCD-Bildschirmanzeigen und -projektoren, auch werden mit der PHABLE-Technologie produziert möglicherweise.

Die Kompatibilität von PHABLE mit herkömmlichen Masken und von UVberührungsaufbereiten stellt eine glatte Annahme von PHABLE durch die Industrie sicher. Standardphotoresists mit geeigneten Auflösungs- und Ätzungseigenschaften sind von den mehreren Verkäufern erhältlich. Deshalb sind HB-LED und andere Einheitshersteller in der Lage, auf die üblichen, gut eingerichteten Quellen für das Erhalten der erforderlichen Hilfsstoffe zu bauen, um ein preiswertes Herstellungsverfahren für ihre photonischen nanostructures sicherzustellen.

Eulitha bietet jetzt Proben und WaferStapelverarbeitungsdienstleistungen den Firmen und Forschern an, die nanostructure-basierte Produkte entwickeln, die interessiert sind, an, diese Durchbruchtechnologie zu nutzen. Es auch bietet aktuell Laborlithographiehilfsmittel für 2" - 4" Wafers an, die für Produktentwicklung geeignet sind-. Großserienproduktionshilfsmittel mit Durchsatz über 100 Wafer-prostunde werden zugänglich für Hersteller in naher Zukunft gemacht. Eulitha erwartet viele zukünftigen photonischen Einheiten, um sogar helleres mit der Einführung der PHABLE-Technologie zu glänzen.

Last Update: 12. January 2012 10:46

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