Site Sponsors
  • Oxford Instruments Nanoanalysis - X-Max Large Area Analytical EDS SDD
  • Strem Chemicals - Nanomaterials for R&D
  • Park Systems - Manufacturer of a complete range of AFM solutions

牛津儀器等離子體技術推出下一代的HBLED批生產工具

Published on October 18, 2010 at 7:16 PM

牛津儀器等離子技術的HBLED製造商提供了突出的優點,推出的PlasmaPro™NGP ®千等離子體刻蝕和沉積工具的HBLED範圍。無與倫比的吞吐量與業界領先的61 × 2“晶圓批量大小?長達 7 × 6“晶圓,加上高品質的設備性能和成品率,意味著牛津儀器能夠為客戶提供一個特殊的HBLED生產提供。

NGP1000範圍已設計,以提高吞吐量,最大限度地提高正常運行時間並降低擁有成本通過可靠的硬件和方便的服務。 NGP1000平台進行了優化批量生產,作為標準的真空負荷鎖。開路負載和四面群集選項可用。

“高亮度LED(HBLED的),現在我們生活中不可分割的一部分,為越來越多的應用提供照明解決方案,從背光電視一般照明”,馬克 Vosloo,牛津儀器等離子體技術銷售總監“,業​​內人士理直氣壯地要求高吞吐量,設備質量和更低的擁有成本,並 NGP1000提供所有這些解決方案。

牛津儀器等離子體技術高的大批量的血漿工具的世界領先供應商在生產市場已經超過 15年,有廣泛的HBLED生產系統的安裝基地。隨著行業的不斷發展,我們的技術和專業知識,提供最新的解決方案為我們的客戶。“

PlasmaPro NGP1000 PECVD系統設計的SiO2和SiNx層的沉積,並採用了大面積電極和優化花灑設計,最多允許 61 × 2“,15 × 4”在一個單一的負載或7 × 6“晶圓。 PlasmaPro NGP1000蝕刻系統,氮化鎵的AlGaInP和藍寶石蝕刻設計,提供了批量大小為 55 × 2“,13 × 4”或5 × 6“,取得市場領先的卷片/月。

大面積的優良的均勻性是新近推出的60MHz的毒蛇™等離子體源提供。這種創新的源實現可比ICP備源的等離子體密度,維持高蝕刻率和低損傷的好處。

這個最新的系統開發,加強了牛津儀器的目的是新一代的工具和系統,工業和研究市場的領先供應商,基於我們的能力,分析和處理問題在最小的規模。該公司使用創新智能科學變成世界一流的產品,支持研究和產業,以解決 21世紀的巨大挑戰。

Last Update: 17. October 2011 21:39

Tell Us What You Think

Do you have a review, update or anything you would like to add to this news story?

Leave your feedback
Submit