Carl Zeiss e Synopsys Colaboram na Metrologia do Registo do Em-Dado para a Fabricação do Photomask

Published on October 28, 2010 at 7:06 PM

Carl Zeiss SMS GmbH, um fornecedor principal para ferramentas da metrologia e do reparo do photomask e Synopsys, Inc. (Nasdaq: SNPS), um líder mundial no software e o IP para o projecto do semicondutor, a verificação e a fabricação, anunciaram hoje uma colaboração para apoiar a família da ferramenta de ZEISS para soluções da metrologia do em-dado para o nó de uma tecnologia (nm) de 32 nanômetros e abaixo.

Synopsys oferecerá o apoio para ZEISS' PROVE™, a ferramenta da metrologia do registo da próxima geração, com Synopsys' CATS™, a solução tecnologia-principal da preparação de dados da máscara. Usando GATOS como o motor da preparação de dados, os coordenadores da máscara que usam PROVE podem tirar proveito da eficiência e da usabilidade melhoradas de um sistema da metrologia do registo que cumpra exigências estritas da precisão da folha de prova.

A preparação de dados da Máscara por GATOS reforçará mais a eficiência PROVE.

A correcção óptica Forte da proximidade e as técnicas de modelação dobro, exigidas para estender a litografia de 193 nanômetro aos nós seguintes da tecnologia, exigem a maior precisão da colocação do teste padrão do photomask. O novos PROVAM que o sistema encontra estes aumentos da procura com seu conceito inovador de 193 sistemas óticos da iluminação do nanômetro. Entrega uma capacidade da metrologia do em-dado para a medida das características as menores da produção sem colocar marcas de registo, permitindo fabricantes da máscara de medir e analisar o registo em áreas críticas na máscara.

O módulo novo dos GATOS, actualmente em disponibilidade de cliente limitada e geralmente - disponível em março de 2011, permite um fluxo rápido, eficiente e inteiramente automatizado para a instalação de trabalhos da metrologia do photomask. Usando os formatos abertos OASIS.MASK e XML do padrão do sector, as capacidades avançadas da marcação e método de correlação bidimensional da PROVA (o 2D), GATOS oferecem um realce significativo aos esquemas convencionais da análise de imagem. O método inovativo compara 2D grampos do projecto da máscara fornecida por GATOS com as imagens na máscara capturada PROVE, tendo por resultado uma precisão mais alta da medida comparada aos métodos padrão usando as medidas 1D baseadas em bordas somente.

“Com experiência a longo prazo de Synopsys' na preparação de dados da máscara e no Carl Zeiss' "knowhow" na metrologia do em-dado, o módulo novo dos GATOS com suas capacidades emocionantes ajudará significativamente a reduzir erros de registo da máscara em características arbitrárias da produção,” disse o Dr. Punhal Beyer, Director de produto para PROVE em Carl Zeiss SMS GmbH.

Os erros de Registo podem agora ser determinados para cada máscara sem limitações da definição, dando a fabricantes da máscara completamente uma nova ferramenta para reduzir erros da colocação na folha de prova dobro da modelação e da máscara-à-máscara.

A colaboração de “Synopsys' com Carl Zeiss exemplifica nosso comprometimento a oferecer a litografia detalhada, inspecção e as soluções da metrologia à fabricação da máscara introduzem no mercado”, disseram Fabio Angelillis, vice-presidente da engenharia para o Silicone de Synopsys' que Projeta o Grupo. “Estendendo GATOS ao apoio PROVE, nós estamos entregando umas soluções mais de alta qualidade da metrologia a nossos clientes no nó de uma tecnologia de 32 nanômetros e abaixo,” adicionou.

Last Update: 11. January 2012 19:45

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