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Le Groupe d'EV Développe le Moulage Monolithique Neuf de Lentille pour des Dispositifs de Très-Haut-Définition

Published on December 2, 2010 at 1:48 AM

Le Groupe d'EV (EVG), un principal fournisseur de matériel de métallisation et de lithographie de disque pour le MEMS, nanotechnologie et marchés de semi-conducteur, ont aujourd'hui annoncé qu'il a développé un procédé neuf de moulage de micro-lentille qui peut activer la production de masse du bloc optique disque disque de très-haut-définition (jusqu'à huit megapixels et plus élevés) pour l'usage dans les smartphones, les projecteurs de pico et la myriade d'autres applications.

La capacité Monolithique neuve de Moulage (MLM) de Lentille, qui a été développée intérieurement par l'équipe de développement de processus d'EVG, est disponible comme option sur le système UV de la lithographie de nanoimprint de Dispositif D'alignement du QI de la compagnie (UV-NIL) ou peut être mise à jour au matériel existant. EVG compte expédier son premier Dispositif D'alignement de QI avec l'option de MLM dans la première moitié de 2011.

Car la taille de l'appareil-photo dans des téléphones portables peut être un facteur limitatif dans des designs de combiné mobile, il y a une demande croissante pour de plus petits modules d'appareil-photo qui peuvent encore adresser l'appel pour une rentabilité plus de haute résolution et. Ceci a changé de vitesse la fabrication du Capteur d'image cmos et de la pile de micro-blocs optiques au niveau de disque. En même temps, l'évolution des appareils-photo disque disque vers des comptes plus élevés de pixel pour répondre à des normes de plus haute performance pilote le besoin de systèmes optiques plus complexes et, par conséquent, de tolérances plus serrées de fabrication.

Dans la production disque disque d'appareil-photo aujourd'hui, des substrats en verre sont type utilisés comme disques de porteur et d'espaceur pour les objectifs, qui se composent de matériau de polymère optique. Les différentes caractéristiques matérielles de ces composants limitent la qualité de définition et d'illustration, qui gênent l'évolutivité et la qualité des modules d'appareil-photo. Le procédé du MLM d'EVG surmonte cette limitation en éliminant le besoin de substrats en verre. Au Lieu De Cela, le polymère est formé entre deux estampilles et puis corrigé avec l'Exposition aux UV par le système de Dispositif D'alignement du QI de l'EVG. En manquant les substrats en verre, les constructeurs disque disque de bloc optique font face à moins contraintes sur la pile optique et de lentille design-activant la production des disques de lentille plus mince et des piles optiques sensiblement plus courtes. De plus, puisque le Dispositif D'alignement de QI forme les micro-objectifs utilisant un procédé de la température ambiante UV-NIL contre l'impression thermique, un niveau élevé de cadrage de précision est réalisé entre les éléments variés dans la performance de pile-maximum de dispositif de lentille optique.

Markus Wimplinger, développement des technologies d'entreprise et directeur d'IP d'EV Groupent, ont noté, « Vu la nature incroyablement dynamique du marché disque disque d'appareil-photo, les solutions du besoin de constructeurs qui peuvent leur donner un avantage concurrentiel dégagé. Le savoir-faire De Pointe de technologie et de procédé est les deux considérations importantes en choisissant les constructeurs droits de matériel pour partner avec dans supporter leurs efforts de fabrication. Notre option neuve de MLM étend nos capacités disque disque de fabrication de micro-lentille pour avoir les moyens nos abonnées plus de souplesse dans leurs designs et pour supporter leurs calendriers de lancement de production. En Tant Que premier fournisseur de matériel pour offrir un procédé prêt à produire pour le moulage monolithique de lentille, ceci qui offre le plus tard du Groupe d'EV cimente davantage notre commandement sur le marché disque disque d'appareil-photo. »

Source : http://www.evgroup.com/

Last Update: 11. January 2012 18:26

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