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SUSS MicroTec Per Sviluppare la Strumentazione di Nanostructuring con il Metodo del Nanolithography di Rolith

Published on December 3, 2010 at 4:38 AM

SUSS MicroTec (FWB: SMH) (GER: SMH), un fornitore principale di strumentazione e la soluzione di trattamento per l'industria a semiconduttore ed i servizi relativi, oggi annunciata che ha preso parte ad un accordo di licenza esclusiva e di sviluppo congiunto con Rolith, Inc. per sviluppare e costruire la strumentazione nanostructuring impieganti un metodo perturbatore di nanolithography si sono sviluppati da Rolith.

La Disponibilità di una tecnica redditizia di alta capacità di lavorazione per nanostructuring sopra le ampie aree dei materiali del substrato porta le nuove possibilità ad energia rinnovabile ed ai servizi verdi del bene immobile.

La tecnologia di nanolithography del brevetto in registrazione di Rolith è basata su un'implementazione privata della litografia ottica del quasi-campo facendo uso delle maschere cilindricamente a forma di di laminazione. la risoluzione di Sotto-Lunghezza d'onda è raggiunta da effetto di interferenza dello sfasamento o dalle strutture plasmonic di stampa di potenziamento. Il modo di funzionamento Continuo permetterà la produzione di basso costo e di alta capacità di lavorazione.

“Prevediamo la tecnologia permetteremo alla generazione seguente di prodotti avanzati, quali le pile solari di alta efficienza 3D, PVs, vetro astuto bene-integrato ed i rivestimenti di qualità superiore con le qualità anti-riflettenti, anabbaglianti, autopulenti ed antinebbia„, hanno detto il Dott. Boris Kobrin, CEO/President di Rolith, Inc. “Siamo deliziati per partner su con SUSS MicroTec che è conosciuto per le loro progettazioni della classe del mondo e servizio di assistenza al cliente eccellente. Con i loro 60 anni di esperienza dei sistemi SUSS della litografia ottica MicroTec ha la competenza e la rete necessarie per aiutare Rolith per portare questa tecnologia tanto necessaria per commercializzare.„

“I Nostri risultati recenti con i sistemi della litografia del nanoimprint ci hanno reso un esperto principale per i substrati di struttura in MEMS e nelle applicazioni nane„, Averdung, il Presidente e direttore generale Franco specificato, MicroTec AG di SUSS. “Combinato con le nostre soluzioni flessibili della strumentazione la tecnologia ottica novella di nanolithography da Rolith ha il potenziale di portare la tecnologia in grande quantità del nanoimprint per commercializzare fondamentalmente cambiando la struttura di costo confrontata alle tecnologie correnti.„

Sorgente: http://www.suss.com/

Last Update: 11. January 2012 17:22

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