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Rolith의 Nanolithography 방법을 가진 Nanostructuring 장비를 발육시키는 SUSS MicroTec

Published on December 3, 2010 at 4:38 AM

SUSS MicroTec (FWB: SMH) (GER: SMH), Rolith, Inc. 맺었다는 것을 혼란을 일으키는 nanolithography 방법을 채택해 장비의 주요한 공급자 및 nanostructuring 장비를 발육시키고 건축하기 위하여 오늘 알려진 반도체 산업 및 관련 시장을 위한 프로세스 해결책은 Rolith를 가진 합동개발과 독점 라이센스 협정을에 의하여, 발전했습니다.

기질 물자의 큰 부위에 nanostructuring를 위한 높은 처리량 비용 효과적인 기술의 가용성은 재생 가능 에너지 및 녹색 건물 시장에 새로운 가능성을 가져옵니다.

Rolith의 특허 출원 중 nanolithography 기술은 원통 모양으로 모양 회전 가면을 사용하여 가깝 필드 광학 석판인쇄술의 소유 실시에 근거를 둡니다. 이하 파장 해결책은 위상 번호 방해 효력 또는 plasmonic 증진 인쇄 구조물에 의해 달성됩니다. 지속적인 작동 모드는 높은 처리량 및 저가 생산을 허용할 것입니다.

"우리는 기술을 가능하게 할 것입니다 향상된 제품의 차세대를 고능률 3D 태양 전지와 같은 건물 통합 PVs 의 지능적인 유리 예기하고 반대로 사려깊고, 반대로 글레어의, 자동 세척 및 반대로 안개 질을 가진 우수 품질 코팅은", 박사를 Boris Kobrin, Rolith 밝혔습니다, Inc.의 CEO/President "우리는 그들의 세계적인 디자인 및 우수한 소비자 봉사로 알려져 있는 SUSS MicroTec로 위로 파트너가 되기 위하여 기뻐합니다. 광학 석판인쇄술 시스템 SUSS로 경험의 그들의 60 년으로 MicroTec에는 시장에 내놓기 위하여 있습니다 필요한 전문 기술 및 통신망이 이 대단히 필요한 기술을 가져오도록 Rolith를 돕는."

"nanoimprint 석판인쇄술 시스템을 가진 우리의 최근 공적에 의하여 저희에게 MEMS와 nano 응용에 있는 구축 기질"는, 진술한 Frank Averdung, 대통령 및 CEO 의 SUSS MicroTec AG를 위한 주요한 전문가가 했습니다. "비발한 광학적인 nanolithography 기술은 기본적으로 현재 기술과 비교된 비용 구조를 바꾸어서 시장에 내놓기 위하여 Rolith에 의해 우리의 유연한 장비 해결책과 결합해 가지고있ㅂ니다 높은 볼륨 nanoimprint 기술을 가져오는 가능성으로."

근원: http://www.suss.com/

Last Update: 11. January 2012 18:34

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