SUSS MicroTec (FWB ：SMH) (GER ：SMH)，半导体行业和相关市场的进程解决方法，今天宣布它达成了协议与 Rolith， Inc. 的联合开发和专用许可证发展和编译 nanostructuring 的设备使用一个制造混乱的 nanolithography 方法的设备的一个主导的供应商和由 Rolith 开发了。
一个高处理量有效技术的可用性 nanostructuring 的在基体材料大区给可再造能源和绿色大厦市场带来新的可能性。
使用圆柱形地形状的滚屏蔽， Rolith 的专利审理 nanolithography 技术在近域光学制版的一次所有权实施基础上。 子波长解决方法由移相干涉作用或 plasmonic 改进打印结构达到。 持续操作模式将允许高处理量和低成本生产。
“我们期望技术将启用先进的产品的下一代，例如高效率 3D 太阳能电池，大厦集成 PVs，聪明的玻璃，并且与反反射性，防眩，自清洗和防雾的质量的优秀品质涂层”，说鲍里斯 Kobrin， Rolith， Inc. CEO/President 博士 “我们高兴与为他们国际水平的设计和非常好的客户服务部知道的 SUSS MicroTec 成为伙伴。 他们的 60 年与光学制版系统 SUSS 的经验 MicroTec 有帮助必要的专门技术和的网络 Rolith 带来此大量需求的技术销售”。
“我们的与 nanoimprint 石版印刷系统的最近成绩做我们构建的基体在 MEMS 和纳诺应用”，指明的弗兰克 Averdung， AG MicroTec 总裁兼 CEO 的， SUSS 一位主导的专家。 “与我们灵活的设备解决方法结合新颖的光学 nanolithography 技术由 Rolith 有潜在带来大容积 nanoimprint 技术通过根本更改成本结构销售与当前技术比较”。
来源： http://www.suss.com/