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ISMI, ऑक्सफोर्ड उपकरण PECVD SiO2 फिल्म्स के साथ कोटिंग 450 मिमी सिलिकॉन वेफर्स के लिए शामिल हों

Published on January 6, 2011 at 3:45 AM

एक पहली दुनिया - ISMI, ऑक्सफोर्ड उपकरण प्लाज्मा प्रौद्योगिकी में प्रौद्योगिकी और अनुप्रयोगों टीमों के साथ सहयोग में SiO2 PECVD के साथ 450mm सिलिकॉन wafers लेपित है.

हाल ही में शुरू ऑक्सफोर्ड उपकरण PlasmaPro ® NGP ® 1000 PECVD प्रणाली, जो कोटिंग 450mm व्यास या छोटे व्यास वेफर्स बड़ा बैच के लिए एकल वफ़र substrates के लिए सक्षम है का उपयोग कर वेफर्स प्रोसेस किया गया.

माइक कुक, ऑक्सफोर्ड उपकरण प्लाज्मा प्रौद्योगिकी में मुख्य प्रौद्योगिकी अधिकारी, बहुत परिणामों से प्रसन्न है. "ISMI और Semilab के साथ हमारा सहयोग दे दी हमें 450mm वेफर्स और भागीदारों के लिए पहला मौका जमा करने के लिए और इस तरह के वेफर्स पर परतों को मापने के लिए उपयोग," उन्होंने कहा. 450mm प्रक्रिया और मैट्रोलोजी उपकरणों के विकास को सक्षम करने के लिए वेफर्स ऑक्सफोर्ड उपकरण में संसाधित है ISMI टेस्ट वेफर जनरेशन प्रोग्राम में उपयोग किया जाएगा. SiO2 फिल्म मोटाई एकरूपता ± 3% छोटे व्यास वेफर्स के बैचों से माप लिया पर आधारित प्राप्त करने की उम्मीद है.

ISMI वर्तमान में आज और कल fabs में उत्पादकता में सुधार और लागत को कम करने के लिए समर्पित कार्यक्रमों के अपने पोर्टफोलियो के हिस्से के रूप में 450 मिमी के लिए संक्रमण के लिए बुनियादी ढांचे के निर्माण. ISMI 450 मिमी कार्यक्रम समन्वय और बुनियादी सुविधाओं, मार्गदर्शन, और उद्योग तत्परता के विकास के माध्यम से एक लागत प्रभावी संक्रमण को सक्षम करने के लिए प्रतिबद्ध है.

ऑक्सफोर्ड उपकरण EEMI 450mm परियोजना में भी शामिल है, विशेष रूप से 450mm खोदना उपकरणों के विकास में. परियोजना बड़ा वफ़र आकार के लिए माइग्रेशन का समर्थन करता है और यूरोपीय उद्योग और अनुसंधान बुनियादी ढांचे के competiveness को मजबूत करने का इरादा है. परियोजना ENIAC संयुक्त उपक्रम और ब्रिटेन प्रौद्योगिकी रणनीति बोर्ड द्वारा समर्थित है.

स्रोत: http://www.oxinst.com/

Last Update: 2. November 2011 10:28

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