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ISMI, Strumenti di Oxford Si Uniscono per Ricoprire le Lastre Di Silicio Da 450 millimetri di Pellicole di PECVD SiO2

Published on January 6, 2011 at 3:45 AM

In collaborazione con ISMI, i gruppi delle applicazioni e della tecnologia alla Tecnologia del Plasma degli Strumenti di Oxford hanno ricoperto le lastre di silicio di 450mm di PECVD SiO2 - un mondo in primo luogo.

I wafer sono stati elaborati facendo uso del sistema recentemente lanciato di PlasmaPro® NGP®1000 PECVD degli Strumenti di Oxford, che è capace di ricoprire i singoli substrati del wafer fino al diametro di 450mm o alle più grandi serie di wafer più di diametro basso.

Mike Cooke, Ufficiale Principale della Tecnologia alla Tecnologia del Plasma degli Strumenti di Oxford, estremamente è soddisfatto con i risultati.  “La Nostra collaborazione con ISMI e Semilab ci ha dato l'accesso ai wafer di 450mm e la prima opportunità per i partner di depositare ed i livelli di misura su tali wafer,„ ha detto.  I wafer elaborati agli Strumenti di Oxford saranno utilizzati nel programma della Generazione del Wafer della Prova di ISMI per permettere allo sviluppo di 450mm trattamento e degli strumenti della metrologia. L'uniformità di spessore di pellicola SiO2 si pensa che raggiunga ±3% basato sulle misure catturate dalle serie di wafer più di diametro basso.

ISMI corrente sta sviluppando l'infrastruttura per la transizione a 450 millimetri come componente del suo portafoglio dei programmi dedicati al miglioramento della produttività ed a diminuire i costi negli odierni e fabs di domani. Il ISMI un Programma di 450 millimetri è commesso a permettere ad una transizione redditizia con coordinamento e lo sviluppo dell'infrastruttura, dell'orientamento e della prontezza dell'industria.

Gli Strumenti di Oxford egualmente è comportato nel progetto di EEMI 450mm, specificamente nello sviluppo degli strumenti incissione all'acquaforte di 450mm. Il progetto supporta la migrazione alla più grande dimensione del wafer ed è inteso rinforzare il competiveness dell'infrastruttura Europea della ricerca e dell'industria. Il progetto è supportato dall'Impresa Comune di ENIAC e dalla Scheda BRITANNICA di Strategia della Tecnologia.

Sorgente: http://www.oxinst.com/

Last Update: 11. January 2012 13:42

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