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ISMI のオックスフォードの器械は PECVD SiO2 のフィルムと 450 の mm のシリコンの薄片に塗るために結合します

Published on January 6, 2011 at 3:45 AM

ISMI と共同して、オックスフォードの器械血しょう技術の技術およびアプリケーションチームは PECVD SiO2 - 世界と 450mm のシリコンの薄片に最初に塗りました。

ウエファーは小さい直径のウエファーの 450mm の直径かより大きいバッチまで単一のウエファーの基板に塗ることができるオックスフォードの器械の PlasmaPro® 最近進水させた NGP®1000 PECVD システムを使用して処理されました。

マイク Cooke、オックスフォードの器械血しょう技術の主な技術の将校は結果と、非常に喜びます。  「ISMI および Semilab の私達の共同私達に 450mm のウエファーへのアクセスを与え、沈殿するパートナーのための最初の機会およびそのようなウエファーの測定の層」はと彼は言いました。  オックスフォードの器械で処理されたウエファーが ISMI のテストウエファーの世代別プログラムで 450mm プロセスおよび度量衡学のツールの開発を可能にするのに使用されます。 SiO2 フィルム厚さの均等性は小さい直径のウエファーのバッチから取られる測定に基づいて ±3% を達成すると期待されます。

ISMI は生産性を改善することおよび今日および明日の fabs でコストを削減することに専用されているプログラムのポートフォリオの一部として現在 450 の mm への転移のための下部組織を構築しています。 ISMI は下部組織、指導および企業の準備の調整そして開発による費用有効転移を可能にすることに 450 の mm プログラム努力しています。

オックスフォードの器械はまた 450mm の腐食のツールの開発の EEMI 450mm のプロジェクトに、とりわけかかわります。 プロジェクトはより大きいウエファーのサイズに移行をサポートし、ヨーロッパの企業および研究の下部組織の competiveness を増強するように意図されています。 プロジェクトは ENIAC の共同プロジェクトおよびイギリスの技術の作戦のボードによってサポートされます。

ソース: http://www.oxinst.com/

Last Update: 11. January 2012 13:44

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