盤存,牛津儀器塗料 450毫米矽片的PECVD SiO2薄膜

Published on January 6, 2011 at 3:45 AM

盤存,牛津儀器等離子技術的技術和應用團隊合作的PECVD二氧化矽塗450毫米矽片 - 世界第一。

使用牛津儀器最近推出的PlasmaPro ® NGP ® 1000 PECVD系統,這是單晶圓塗層基板至450mm直徑較大的小直徑的晶圓批次的晶圓處理。

麥克庫克,在牛津儀器等離子技術的首席技術官,是非常滿意的結果。 “我們與盤存和Semilab的合作給了我們進入 450mm晶圓和第一次有機會為合作夥伴提供的存款和措施等晶圓層,”他說。牛津儀器加工的晶圓將用於盤存的測試晶圓代方案,以便為 450mm的過程和計量工具的發展。預計 SiO2薄膜的厚度均勻性達到 ± 3%,從更小的直徑的晶圓的批次測量。

盤存目前正在建設的基礎設施,致力於提高生產力和降低成本在今天和明天的晶圓廠的方案組合的一部分過渡到450毫米的。盤存 450毫米計劃致力於實現具有成本效益的轉變,通過協調和發展的基礎設施建設,指導,和產業準備。

牛津儀器公司也參與 EEMI450毫米項目,特別是在為 450mm蝕刻工具的發展。該項目支持遷移到更大的晶圓尺寸,是為了加強歐洲工業的競爭力和科研基礎設施。該項目是由ENIAC的聯合承諾和英國技術戰略委員會的支持。

來源: http://www.oxinst.com/

Last Update: 9. October 2011 04:24

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