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CVD 装置は 2010 年の新しい順序で $25,000,000 を受け取ります

Published on January 12, 2011 at 6:11 AM

CVD Equipment Corporation (NASDAQ: CVV) 2009 年に 152% までに越える 2010 のための新しい順序で第 4 四分の一 2010 年および $25 百万のための $8,000,000 に受け取られた新しい順序の $9.9 百万を受け取ったことを発表される。 これは新しい順序で第 4 連続的な年四回の増加です。

2010 の研究および生産システムの CVD/FN の部分のための新しい順序は 2009 の順序のレベルと比較されたおよそ 200% を増加しました。 CVD/FN の部分はエネルギー生成、省エネおよびナノテクノロジーフィールドの高められた興味から寄与し続けます。 私達はこの増加する需要が 2011 年に続くことを予想します。

さらに、それぞれ 2009 年と比較される 53% および 40% 高められる Conceptronic および SDC の私達の部分から 2010 年に届く新しい順序。

上昇エネルギーおよび環境の費用をアドレス指定するのに必要とされる省エネナノテクノロジーを使用して、エネルギー世代別材料および製品のための大きい要求は製造の解決およびガラス、ウエファーおよび他の基板の薄膜のコーティングのための高まる需要を作成します。 私達のアプリケーション実験室を使用して、私達は私達のプロセス解決が応用である場合もある複数のエリアを完成し、拡大し続けます。 太陽、エネルギーおよびナノテクノロジーは提供を私達好ましい費用便益を提供する技術のための重要で世界的な成長の機会販売します。 これらのフィールドは省エネおよび生態学上安全なエネルギー生成のための更新された駆動機構から更に寄与します。

2010 の Graphene の私達のヘッド開始は早く興味深い機会を 10 月 2010 日に Graphene のためのノーベル賞が与えられたときに私達に与えました。 夜通しこの新しい材料のためのアプリケーションを探索している研究者の番号に顕著な増加がありました。

満足明日の技術の商業化の加速の私達の作戦がまた財政の鋭才の技術の改新者および生産に転移へのリソースによって今研究開発認識されていることを見るためにです。 これらの技術の改新者と共同して複雑なシステム統合およびハードウェア/プロセス相互作用で理解する私達の装置デザイン、製造の技術およびオーバーオールはより危険度が低い、高い値、含まれる両方の党のための勝利状態である装置デザイン解決のデザインそして製造を可能にします。

ソース: http://www.cvdequipment.com/

Last Update: 11. January 2012 13:44

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