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Posted in | Nanoelectronics

チップ設計者のための GLOBALFOUNDRIES からの新しい 28 の nm のサイン・オフ準備ができた流れ

Published on January 13, 2011 at 4:28 AM

GLOBALFOUNDRIES は今日チップ設計者がパワーに敏感な可動装置および消費者電子デバイスの次世代を提供するのを助けるように企業の最初 28nm によってケイ素認可されたサイン・オフ準備ができたデジタルデザイン流れをもたらしました。

EDA/IP の生態系のリーダーと共同して成長して、 GLOBALFOUNDRIES」 28nm のゲートのに最初に基づいて高k (SLP) 金属のゲートとの極度の低い電力の技術 (HKMG)、流れはリーディングエッジノードで助けるために正確に克服します設計し、製造の集積回路の一義的な挑戦を調整されます。

新しいサイン・オフ準備ができた流れは品質のための新しい標準を保障する、スコープセットするケイ素の確認のための必要性の認識と最初の時間右のケイ素の成功を開発され、鋳物場の検索能力は流れます。 顧客は企業の統合の最先端のセットを使用しておよび DFM のツール、ツールの原稿および方法今サイン・オフ準備ができた 28nm デザインを作り出し、サイン・オフ置き、経路を指定する、ことができます。

「世界の上 IC デザイナーの多数は明日の最も革新的な可動装置を渡すのに私達の 28nm 技術を使用して、消費者装置」、 Chian Mojy GLOBALFOUNDRIES のデザイン enablement の上席副社長を言いました。 「広範囲 28nm デザインプラットホームを提供する EDA/IP の生態系の私達のパートナーとの密接に協力によって私達はスムーズに持って来られるそして彼らの重大な市場条件を満たす時間にデザインが生命に」。こと与えています顧客に信任を

従来の鋳物場デザイン流れは先行技術ノードでデザインおよび製造業の成長する相互作用を考慮に入れませんでした。 GLOBALFOUNDRIES は実質のケイ素に対して設計方法論を認可するために EDA のソフトウェアおよび IP の提供者との早い共同の開発の強調によってこれらの問題を扱いました。 GLOBALFOUNDRIES の」サイン・オフ物理的な確認の解決デザインのため製造業でリーダーとして DRC+ の点検する標準デザイン規則を越えて行く流れ、 (DFM)複雑な製造業の識別の 100 倍の速度の改善まで可能になるべき二次元の形ベースのパターン一致を出ます (DRC)使用します会社のケイ素認可された解決のサポートによって正確さを犠牲にしないで、すべて GLOBALFOUNDRIES てこ比」の相続財産の堅い統合に加えて。

GLOBALFOUNDRIES および調子は共同で十分に調子の高レベル統合、低い電力、経路指定、 DFM および確認を含む高度のケイ素の実施のツールのポートフォリオを、示す複雑な 28nm-SLP デザインを開発しました。 9 mm2 数百万のゲートデザインは、ショーケースによって進められる 28nm チップ実施の技術強調し、力の量的なケイ素の確認を、パフォーマンスおよび領域のトレードオフ、また強さおよび収穫可能にするために architected。 デザインは製造に発表されて、 2011 年の前半に認可されるケイ素であると期待されます。 28nm 経路指定および DFM の推薦された方法の白書はの完全なデザイン、実施の原稿および一組 2011 年の Q1 で開始している顧客に使用できます。

GLOBALFOUNDRIES および Synopsys はオオヤマネコの設計システムのための 28nm-SLP 鋳物場準備ができたシステム技術の差込とともに Synopsys Galaxy™の実施のプラットホームに、基づいて 28nm-SLP デザイン流れを開発するために協力しました。 ケイ素証明されたデザイン流れは Synopsys」 PrimeTime® を含む最新の EDA の技術の GLOBALFOUNDRIES 28nm-SLP デザイン規則を、進めましたオンチップ変化の分析、 IC コンパイラーの DFM 最適化された Zroute のルーターおよび内部デザイン物理的な確認および IC Validator DRC および DRC+ パターンサポートを統合します。 オオヤマネコ鋳物場準備ができたシステムは GLOBALFOUNDRIES のにオオヤマネコのギャラクシーによってプラットホーム可能にされる生産デザイン流れを」技術適応させ、指針および良質および最も強いデザインの保障を助けるように最新の 28nm ケイ素データに基づいてツールの設定を含んでいます。 鋳物場準備ができたシステムがアドレス指定するオオヤマネコは規則、オンチップ変化の経路を指定することを推薦し、オンチップ変化の分析および DFM を進めま、鋳物場とのより効率的なハンドオフを可能にします。 両方の鋳物場デザイン流れおよび 28nm-SLP オオヤマネコ鋳物場準備ができたシステムは 2011 年の Q1 で開始している顧客に使用できる期待されます。

GLOBALFOUNDRIES および顧問の図形はオリンパスSoC™および Calibre® InRoute™の製品に基づいて完全な参照の流れを開発しています。 オリンパス SoC ルーターは GLOBALFOUNDRIES のために進められた 28nm 基本原則および推薦された規則が両方 DFM を、効率的な経路指定のための改善された調理法実行することができる、および製造の記録の分析のためのサポートをように」 28nm-SLP の技術修飾され、サポート提供します (MAS)。

GLOBALFOUNDRIES およびマグマは Talus® の渦 IC の実施のプラットホームに基づいて 28nm-SLP サイン・オフ準備ができた流れを開発するために働きました。 距骨の渦はパフォーマンスおよび力管理が重大であるところにすべてのプロセスノードでチップ (SoCs) の複雑なシステムを作成しているエンジニアのための理想的な物理的設計の環境であり。 それは - 可能にされて混線回避、高度オンチップ変化およびマルチモード複数のコーナーの分析が…デザイナーの 1.5 百万のまでセルまたは大きいデザインまたはブロックの 1 日あたりの多くを実行することを許可 (AOCV)によって劇的に生産性を改善します。 距骨はまた自動化された複数のVdd 方法によって高度の低電力デザイン分析および最適化を行います。 マグマおよび GLOBALFOUNDRIES の」相互顧客によって距骨が既に積極的な時間、力およびパーフォーマンスターゲットを達成するのに使用されてしまいました。

GLOBALFOUNDRIES は共同で RedHawk™を使用してアパッシュデザイン解決との 28nm-SLP サイン・オフ準備ができた流れを開発して、彼らの低い電力に会うために強い解決を顧客に与える Totem™は要求します。 RedHawk は超低い力のデザイン・テクニックとのそれらを含む大規模 SoCs のための生産によって証明される力のサイン・オフプラットホームです。 トーテムは力、騒音を提供し、アナログ/混合されシグナルのためにサイン・オフ信頼性は設計します。 GLOBALFOUNDRIES ののアパッシュの製品の組は」サイン・オフ流れデザイナーがサイン・オフ早いプロトタイピング、回路の最適化および全チップを行うことを可能にします。

これらの高度の流れすべての開発の前提条件はデジタルルーターの厳密な修飾です。 GLOBALFOUNDRIES は調子、 Synopsys、顧問の図形およびマグマからのデジタルサイン・オフ準備ができたように修飾されるために満たさなければルーターがならない厳しい一組の条件を開発しました。 これは結果の物理的な確認のサイン・オフ規則におよび推薦された規則、実行時間およびメモリ足跡、また品質合うことを含んでいます。 サイン・オフ準備ができた流れおよびルーターの修飾は標準セル、力管理キット、メモリコンパイラーおよびインターフェイス IP を含むアームからの 28nm-SLP 職人によって進められる物理的な IP の完全な組によって、サポートされます。

GLOBALFOUNDRIES すべては」スケーラビリティ (パフォーマンス、力は、サイズ、デザインコンパティビリティ停止します) および manufacturability 両方の他の鋳物場 28nm の技術より優秀である HKMG に 28nm の技術ゲートを最初に近づきます用います。 ゲートの最初解決は SiON の多ゲートに基づいてすべての前のノードのプロセスフロー、デザイン柔軟性、デザイン要素および利点を共有します。

「もう一度私達の相互顧客が彼らの最も堅い高度ノード挑戦に取り組むのを助けるために、調子は GLOBALFOUNDRIES と団結しました」ジョン Bruggeman を調子の II、上席副社長および最高マーケティング責任者言いました。 「私達のケイ素の認識の技術、 28nm 高K 金属のゲートの (EDI)サイン・オフ準備ができたデジタルデザイン流れの先導的な役割を担う私達可能になる特に遭遇のデジタル実施システム。 このエンドツーエンドのデジタル流れは統一された、ケイ素証明された 28nm 経路指定の意思、 DFM の抽象的概念および組み込みのサイン・オフ機能に予想できるケイ素の収束を提供するためにてこ入れします。 さらに、 EDI システムの内部デザイン DRC+ は 100 つの時のより従来の流れに」。速くある GLOBALFOUNDRIES 証明された DRC+ の固定を顧客に与えるサイン・オフ品質のパターン・マッチングの技術にてこ入れします

「プロセスの私達の早い共同、デザインおよび製造業は GLOBALFOUNDRIES を可能にし、 Synopsys のオオヤマネコの設計システムに基づく生産証明された 28nm デザイン解決前部に広範囲を渡す Synopsys」ジョン Chilton を Synopsys のマーケティングそして戦略的な開発の上席副社長言いました。 「ギャラクシー実施のプラットホーム進められたデザインはそして物理的な確認の技術、前認可された 28nm SLP のオオヤマネコ鋳物場準備ができたシステムと共に、より効率的におよびより低い統合の危険および費用と次世代のパワースマートな可動装置および消費者電子デバイスを提供することを可能にします先端 SoC の設計チームが」。は

「28nm サイン・オフ準備ができた流れを達成することは長期共同の継続であり、 GLOBALFOUNDRIES と顧問間の相互投資」、ヨセフ Sawicki、副大統領およびケイ素部への顧問のデザインの総務部長を言いました。 「高度 DFM の効果のための考察そして最適化を含む継ぎ目が無い流れへのオリンパス、口径および GLOBALFOUNDRIES の技術の統合は、サイン・オフ準備ができた結果を保障します。 この解決は相互顧客が 28nm プロセスケイパビリティにてこ入れするのを十分に助けますかけれどもまだ維持するか、または減らしますデザインサイクル時間を」。

「常に増加するパフォーマンスをサポートします、今日のタブレットで使用される 28 nm IC のタイムに市場および力の最小化の条件 smartphones およびネットワーキングおよび埋め込まれた装置は高度デザインを必要とし、製造技術」、 Premal ブーフ、マグマのデザイン実施の事業体の総務部長を言いました。 「GLOBALFOUNDRIES 28nm-SLP の加工技術および距骨の渦の組合せ 28 nm ノードで低電力デザインに非常に速いスループットを与えます相互顧客に」。は

「アパッシュデザイン解決」の焦点は力、騒音および信頼性の重大なデザイン挑戦をアドレス指定する製品を渡すことにあります。 デジタルおよびカスタム IC の電源の騒音、エレクトロ移行および静電放電のための会社の (EM)企業によって証明されるサイン・オフ解決は (ESD)多くの顧客が予測することを可能にし、彼らのデザインの力の関連問題を管理するため」、 Dian ヤン、上席副社長およびアパッシュの総務部長を言いました。 「28nm-SLP サイン・オフ流れの GLOBALFOUNDRIES のアパッシュ共同更に保障します低い電力の要求に応じ、ケイ素の成功を達成するために私達の相互顧客を」。は

「アーム職人物理的な IP のプラットホームの提供デザイナー低い電力の条件およびプロセッサのパフォーマンス目標を達成する実施オプションの広い範囲」サイモン Segars、アーム、副総裁および総務部長の物理的な IP 部を言いました。 「職人物理的な IP および GLOBALFOUNDRIES」は製造工程のための IP を調整することの修飾 EDA の技術ですこれらのプラットホームの保証の重要な要素サポートします fabless 半導体工業を渡って使用される多様な SoC の実施の流れを」。

ソース: http://www.globalfoundries.com/

Last Update: 11. January 2012 12:18

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