Las Impresiones Moleculares Introducen la Nueva Plataforma de la Réplica de la Máscara de la Litografía de la Impresión de la Tobera y del Destello

Published on January 13, 2011 at 4:40 AM

Molecular Imprints, Inc., el mercado y arranque de cinta de la tecnología para los sistemas y las soluciones de la litografía del nanoimprint, introdujeron hoy el Perfecta MR5000 - su nueva plataforma de la réplica de la máscara de la impresión de la Litografía de la Tobera y de la Impresión de Flash™ (J-FIL™) para la industria del semiconductor.

Representando el primer sistema nanopatterning de la industria diseñó específicamente replegar 6025 máscaras de la impresión, el Perfecta MR5000 permite a máscaras idénticas múltiples de la reproducción ser fabricado de un único capitán del e-haz, reduciendo substancialmente costos de la máscara, un componente importante en la entrega del bajo costo de la propiedad para el uso de la impresión en configuraciones avanzadas de la memoria no volátil.

Las Impresiones Moleculares también están satisfechas anunciar a ese Dai Nipón Que Imprime Co., Ltd. (DNP), el surtidor mercantil de cabeza de máscaras a la industria del semiconductor, han tomado la salida del primer sistema MR5000, fomentando el cierre y continuando la colaboración entre las dos compañías en el revelado de las máscaras del nanoimprint para la fabricación del semiconductor en 2Xnm y más allá.

“Una tecnología que modela barata viable será un enabler esencial en producir las generaciones siguientes de memorias de estado sólido de poco costo, determinado dadas la litografía configuraciones intensivas en dispositivos de memoria avanzados tales como memoria 3D,” declaró la Marca Melliar-Smith, CEO de Impresiones Moleculares. Los “fabricantes del Semiconductor leveraging ya el funcionamiento que modela de alta fidelidad de nuestra tecnología de J-FIL en sus programas de revelado. La capacidad del Perfecta MR5000 de entregar máscaras marginales, de alta calidad de la impresión establece los componentes dominantes de la infraestructura necesarios para la adopción de la fabricación de los nanoimprint.”

“Nuestra compra del Perfecta MR5000 refleja el liderazgo técnico continuado y la consolidación de DNP para servir la industria del semiconductor con las soluciones avanzadas del photomask,” según Junio-Ichi Tsuchiya, Director General de las Operaciones del Dispositivo Electrónico en DNP. “Utilizaremos este sistema para desarrollar el proceso de la réplica de la máscara para proporcionar a las reproducciones a nuestros clientes y socios de la litografía del nanoimprint en 2011.”

Perfecta MR5000 representa un adelanto importante en tecnología nanopatterning. Tomando el e-haz escrito 6025" marginal las máscaras del capitán”, el sistema son capaces de transferir los modelos sin defectos sobre 6025 reproducciones que se puedan validar por un sistema de la litografía de la impresión del fulminante de la fabricación. Ofreciendo la tecnología aumentada del Generador de Modelo de la Caída de IntelliJet™ de la compañía, el Perfecta MR5000 dispensa el picoliter resiste las gotitas correlacionadas a la densidad local de la característica, activando la uniformidad residual excelente del espesor (RLT) de la capa para la fidelidad de la transferencia del modelo de las características 2Xnm, mientras que virtualmente elimina la necesidad de resiste eliminación de residuos. Generando máscaras múltiples de la “reproducción” de un único “capitán,” enmascare el costo de la propiedad puede ser reducido y contribuir importante a una costo-de-propiedad inferior total para el proceso de la litografía del fulminante.

“Nuestros clientes y socios de la industria continúan invertir en tecnología del nanoimprint como opción a la visión cada vez más costosa y compleja presentada por modelar óptico,” Melliar-Smith adicional. El “Impulso continúa crecer y el Perfecta MR5000 representa un paso de progresión crítico hacia adelante en la construcción de la infraestructura para entregar el nanoimprint y J-FIL como solución de la fabricación para las aplicaciones de la memoria de semiconductor.”

Fuente: http://www.molecularimprints.com/

Last Update: 11. January 2012 12:31

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