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分子Imprintsのは、新ジェットとFlashインプリントリソグラフィマスクレプリケーションプラットフォームを発表

Published on January 13, 2011 at 4:40 AM

分子Imprintsのは、(株)、ナノインプリントリソグラフィシステムやソリューションの市場と技術のリーダー、今日はパーフェクMR5000を導入 - その新しいジェットや半導体業界向けのフラッシュ™インプリントリソグラフィ(J - FIL™)インプリントマスクレプリケーションプラットフォームを。

特に6025インプリントマスクを複製するように設計された業界初のナノパターニングシステムを表す、パーフェクMR5000は、インプリントの使用のための所有権の低コストを提供する上で重要なコンポーネント、大幅にマスクのコストを削減し、単一の電子ビームのマスターから製造される複数の同一のレ​​プリカマスクが有効になります先進的な不揮発性メモリアーキテクチャインチ

分子Imprintsのは、両社間の緊密なと継続的なコラボレーションを促進する、大日本印刷株式会社(DNP)、半導体産業へのマスクの大手商人のサプライヤは、最初のMR5000システムの納入をされたことを喜んで発表する2Xnm以降における半導体製造用ナノインプリントマスクの開発にも

"実行可能な低コストのパターニング技術は、ソリッドステートメモリの次の世代の生産に不可欠なイネーブラは、特にリソグラフィなどの3Dメモリなどの高度なメモリデバイスの集中的なアーキテクチャを考えると、コスト効率よくする、"マークMelliar -スミス、分子Imprintsの最高経営責任者(CEO)は述べて。 、"半導体メーカーは、すでにその開発プログラムにおける私たちのJ - FIL技術の高忠実度のパターニング性能を活用ています。最先端、高品質のインプリントマスクを提供するためにパーフェクMR5000の能力は、ナノインプリントの製造導入のための必要な場所に鍵インフラストラクチャコンポーネントに置きます。"

潤一土谷、DNPで電子デバイス事業のゼネラルマネージャーによると、"パーフェクMR5000の私達の購入は、高度なフォトマスクのソリューションを半導体業界にサービスを提供するDNPの継続的な技術的リーダーシップとコミットメントを反映している"。 "我々は、ナノインプリントリソグラフィの顧客と2011年にパートナーにレプリカを提供するためのマスクの複製プロセスを開発するには、このシステムを使用することになります。"

パーフェクMR5000は、ナノパターニング技術において重要な進歩を表しています。最先端6025"マスター"のマスクを書かれた電子ビームを取って、システムは、製造ウェハのインプリントリソグラフィシステムで受け入れ可能な6025のレプリカに完璧にパターンを転送することが可能です。実質的に廃棄物処理に抵抗するための必要性を排除しながら、同社の強化IntelliJet™ドロップパターンジェネレータの技術を搭載した、パーフェクMR5000分注ピコリットルは、2Xnm機能のパターン転送忠実度の優れた残留層の厚さ(RLT)均一性を可能にする、局所特徴の密度にマップされた液滴をレジスト。シングルから複数の"レプリカ"のマスクを生成することによって、"マスター、"所有権のマスクコストを大幅に削減することができ、ウェーハのリソグラフィプロセスの全体的な低所有コストに貢献する。

"当社の顧客と業界パートナーは、光学的パターニングすることによって提示ますます高価で複雑な視覚の代替としてナノインプリント技術への投資を続け、"Melliar - Smith氏は付け加えた。 "勢いで成長を続けてパーフェクMR5000は、半導体メモリのアプリケーションのための製造ソリューションとしてナノインプリントとJ - FILを提供するインフラを構築する上で前進重要なステップを表します。"

ソース: http://www.molecularimprints.com/

Last Update: 5. October 2011 08:11

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