Site Sponsors
  • Oxford Instruments Nanoanalysis - X-Max Large Area Analytical EDS SDD
  • Strem Chemicals - Nanomaterials for R&D
  • Park Systems - Manufacturer of a complete range of AFM solutions

Молекулярные Отпечатки Вводят Новую Платформу Репликации Маски Литографированием Отпечатка Двигателя и Вспышки

Published on January 13, 2011 at 4:40 AM

Молекулярн Отпечатывать, Inc., рынок и руководитель технологии для систем и разрешений литографированием nanoimprint, сегодня ввели Perfecta MR5000 - своя новая платформа репликации маски отпечатка Литографированием Двигателя и Отпечатка Flash™ (J-FIL™) для индустрии полупроводника.

Представляющ систему индустрии первую nanopatterning специфически конструировал скопировать 6025 маск отпечатка, Perfecta MR5000 позволяет множественные идентичные маски реплики быть изготовленным от одиночного оригинала e-луча, существенно уменьшая цены маски, важный компонент в поставлять низкую цену владения для пользы отпечатка в предварительных зодчеств слаболетучей памяти.

Молекулярные Отпечатки также довольный для того чтобы объявить тот Dai Японию Печатая CO., Ltd. (DNP), ведущий купеческий поставщика маск к индустрии полупроводника, приняли поставку первой системы MR5000, продвигая конец и продолжая сотрудничество между 2 компаниями в развитии маск nanoimprint для изготавливания полупроводника на 2Xnm и за пределами.

«Жизнеспособная недорогая делая по образцу технология будет необходимым enabler в производить следующие поколени полупроводниковых памятей стоимых эффектно, в частности, котор дали литографированию интенсивнейшие зодчеств в предварительных приборах памяти как память 3D,» заявленное Марк Melliar-Смит, CEO Молекулярных Отпечатков. «Изготовления Полупроводника уже leveraging высококачественное делая по образцу представление нашей технологии J-FIL в их программах развития. Способность Perfecta MR5000 поставить ведущую кромку, высокомарочные маски отпечатка кладет в компоненты инфраструктуры ключа места необходимые для принятия изготавливания nanoimprint.»

«Наша покупка Perfecta MR5000 отражает водительство и принятие окончательного решения DNP продолжаемое техническое для служения индустрии полупроводника с предварительными разрешениями photomask,» согласно Июню-Ichi Tsuchiya, Генеральному Директору Деятельностей Электронного Устройства на DNP. «Мы будем использовать эту систему для того чтобы начать процесс репликации маски для того чтобы снабдить реплики наши клиенты и соучастники литографированием nanoimprint в 2011.»

Perfecta MR5000 представляет значительно выдвижение в nanopatterning технологии. Принимающ ведущую кромку написанную e-лучем 6025" маски оригинала», система способны переносить картины безупречно на 6025 реплик которые могут быть приняты системой литографированием отпечатка вафли изготавливания. Отличающ технологией Генератора Картины Падения IntelliJet™ компании увеличенной, Perfecta MR5000 распределяет picoliter сопротивляет капелькам отображанным к местный плотности характеристики, включающ превосходное остаточное единообразие толщины (RLT) слоя для точности воспроизведения перехода картины характеристик 2Xnm, пока фактически исключающ потребность для сопротивляет уничтожению отбросов. Путем производить множественные маски «реплики» от одиночного «оригинала,» цену маски владения можно значительно уменьшить и внести вклад в общее низкое цен--владение для процесса литографированием вафли.

«Наши клиенты и соучастники индустрии продолжаются проинвестировать в технологии nanoimprint как алтернатива к все больше и больше дорогему и сложному зрению представленному оптически делать по образцу,» добавленный Melliar-Смит. «Момент продолжается вырасти и Perfecta MR5000 представляет критический шаг вперед в строить инфраструктуру для того чтобы поставить nanoimprint и J-FIL как разрешение изготавливания для применений памяти полупроводника.»

Источник: http://www.molecularimprints.com/

Last Update: 11. January 2012 12:29

Tell Us What You Think

Do you have a review, update or anything you would like to add to this news story?

Leave your feedback
Submit