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Posted in | Nanoelectronics

Cadenza presenta il nuovo 32, 28-nanometri Silicon Realizzazione di riferimento del flusso

Published on January 18, 2011 at 2:57 AM

Cadence Design Systems, Inc. (NASDAQ: CDN), leader mondiale in innovazione progettazione elettronica, ha presentato oggi un qualificato flusso di riferimento 32/28-nanometer targeting Common Platform ™.

Cadence ® collaborato a stretto contatto con i membri dell'alleanza Common Platform - IBM, GLOBALFOUNDRIES, e Samsung Electronics - di sviluppare un flusso completo di sintesi RTL a GDSII signoff per il nodo avanzati, a basso consumo high-k metal gate (HKMG) processo tecnologia.

Questo nuovo flusso di Silicon Realizzazione di riferimento per l'alleanza piattaforma comune è costruito intorno alla cadenza end-to-end Incontro ® di flusso, tra cui Incontro compilatore RTL, Incontro di prova, Incontro Conformal, Digital sistema di attuazione Incontro, Analyzer Litho fisica, QRC Extractor, Encounter tempi di sistema e di alimentazione del sistema Encounter. E 'stato convalidato utilizzando il 32/28-nanometer ARM ® librerie fisiche a bassa potenza, e impiega il formato Common Power (CPF)-enabled Cadence bassa potenza soluzione per mantenere l'intento potere in tutto il processo di progettazione.

"Abbiamo lavorato a stretto contatto con la cadenza di perseguire un flusso ottimale di design che permette ai nostri reciproci clienti di creare prodotti differenziati in 32/28-nanometer tecnologia," ha affermato Gary Patton, vice president, IBM Semiconductor Centro Ricerca e Sviluppo, per conto della Common Platform alleanza. "Cadence è offerta Realizzazione di una Silicon completamente ottimizzato end-to-end flusso di progettazione mirato alla 32/28-nanometer Common Platform tecnologia high-k metal gate segna il nostro reciproco impegno per il successo dei clienti".

Il flusso comprende chiave fonderia convalidati tecnologie, tra cui la sintesi fisicamente consapevole, su larga scala esplorazione progettazione rapida e prototipazione fisica, avanzate di temporizzazione e l'integrità ottimizzazione del segnale in concomitanza con l'analisi multi-mode e multi-angolo e ottimizzazione, context-aware collocamento, avanzate OCV -aware albero sintesi orologio, lito-aware routing, e in-design analisi il visto per la temporizzazione e di potere. Inoltre, progettazione simultanea per la produzione (DFM Design-in), la tecnologia è attivato su richiesta per garantire la producibilità a 32 e 28 nanometri. La cadenza Realizzazione flusso di silicio di riferimento è completamente ottimizzato per offrire risparmi energetici significativi con la massima qualità su tutti i fronti, e offre il time-to-market vantaggi per innovativi progetti elettronici mirati per l'alleanza Piattaforma Common 32/28 nanometri di processo.

Il recentemente annunciato flusso Realizzazione silicio è l'ultima offerta Cadence sostenere il EDA360 visione, che, tra le altre cose, prevede la collaborazione a livello di settore per affrontare le sfide di progetti complessi di oggi.

"La nostra stretta collaborazione con i partner Common Platform riunisce silicio strumenti collaudati, end-to-end dei flussi e metodologie come un aiuto ai progettisti avanzato che cerca di ottenere una migliore prevedibilità in termini di convergenza di design, di qualità superiore di silicio e la produttività di progettazione più elevati", ha detto Chi-Ping Hsu, vice presidente senior, ricerca e sviluppo, realizzazione del Gruppo di silicio a cadenza. "La stretta collaborazione tra la cadenza e l'alleanza piattaforma comune sul nodo avanzati, a basso consumo soluzioni progettuali per la realizzazione di silicio offre ai progettisti una corsia preferenziale per il successo di silicio."

Soluzioni per la tecnologia 32/28-nanometer e altre innovazioni avanzate sarà presentato al Forum Common Piattaforma tecnologica per il 18 gennaio 2011 a Santa Clara Convention Center.

Fonte: http://www.cadence.com/

Last Update: 3. October 2011 11:10

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