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Sistema Científico de la Limpieza del Plasma de XEI 1000o Evactron

Published on February 2, 2011 at 9:09 AM

XEI Scientific Inc, fabricante del Sistema popular de la Limpieza del Plasma de EVACTRON para los microscopios electrónicos y otras cámaras de vacío, anunció hoy que con las remesas finales de 2010, han satisfecho las órdenes que traían el número total de sistemas de Evactron entregados a más de 1.000 unidades por todo el mundo.

Director Global de Ventas, Tom Levesque dijo que “Somos muy orgullosos de alcanzar esta piedra miliaria importante. La solución in situ de la limpieza del plasma de Evactron ahora se considera como el patrón para el retiro de la contaminación hidrocarburo-basada en una gran variedad de sistemas del vacío en todo el mundo. Ofrecido para hace casi todo de microscopios electrónicos, el haz doble Miente y otras herramientas de la proyección de imagen con los requisitos limpios del vacío, éste probados, tecnología segura han proporcionado al retiro de poco costo de la contaminación para las aplicaciones más exigentes de la proyección de imagen y de la metrología.”

Citan el Director de Producto Científico de XEI, Gabe Morgan, como declarar “El Evactron ha venido siempre con una garantía que protege a los utilizadores contra cualquier daño a los componentes sensibles del compartimiento tales como ventanas del detector de la Radiografía. Ahora, incluso con este número de unidades importante en el campo, somos orgullosos decir que nunca hemos tenido que reparar o reemplazar cualquier componente dañado por el proceso de la limpieza de Evactron.”

Actualmente, XEI está introduciendo la tecnología in situ para el uso en Microscopia Electrónica De Transmisión mediante el TEM WandT. Además, las nuevas aplicaciones donde están críticas las superficies extremadamente limpias por ejemplo la Litografía de EUV, la síntesis de nano-materiales nuevos o las operaciones por los nano-manipulantes continúan desplegar las aplicaciones potenciales de la tecnología de XEI.

Last Update: 11. January 2012 07:56

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