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Système Scientifique de Nettoyage de Plasma de XEI 1000th Evactron

Published on February 2, 2011 at 9:09 AM

XEI Scientific Inc, générateur du Système populaire de Nettoyage de Plasma d'EVACTRON pour des microscopes électroniques et d'autres puits à dépression, a annoncé aujourd'hui qu'avec les expéditions finales de 2010, ils ont accompli des commandes portant tout le nombre de systèmes d'Evactron fournis à plus de 1.000 ensembles mondiaux.

Directeur Global des Ventes, Tom Levesque a dit que « Nous sommes très fiers d'atteindre cette étape significative. La solution in situ de nettoyage de plasma d'Evactron est maintenant vue comme norme pour le démontage de la contamination hydrocarbure-basée dans une grande variété de systèmes d'aspirateur autour du monde. Offert pour effectue presque tout des microscopes électroniques, la double poutre Ment et d'autres outils de représentation avec des conditions propres d'aspirateur, cette technologie prouvée et sûre a fourni le démontage rentable de contamination pour les applications de représentation les plus exigeantes et de métrologie. »

Le Chef de Produit Scientifique de XEI, Gabe Morgan, est coté en tant qu'indiquer « L'Evactron est toujours venu avec un cautionnement protégeant les utilisateurs contre n'importe quels dégâts aux composants sensibles de cavité tels que des hublots de détecteur de Rayon X. Maintenant, même avec ce nombre important d'ensembles dans le domaine, nous sommes fiers de dire que nous n'avons jamais dû ne réparer ou remonter aucun composant abîmé par le procédé de nettoyage d'Evactron. »

Actuel, XEI introduit la technologie in situ pour l'usage dans la Microscopie Électronique de Boîte De Vitesses au moyen du TEM WandT. De Plus, les applications neuves où les surfaces extrêmement propres sont critiques comme la Lithographie d'EUV, la synthèse des nano-matériaux nouveaux ou les fonctionnements par des nano-manipulateurs continuent à augmenter les utilisations potentielles de la technologie de XEI.

Last Update: 11. January 2012 07:41

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