Site Sponsors
  • Strem Chemicals - Nanomaterials for R&D
  • Oxford Instruments Nanoanalysis - X-Max Large Area Analytical EDS SDD
  • Park Systems - Manufacturer of a complete range of AFM solutions
  • Technical Sales Solutions - 5% off any SEM, TEM, FIB or Dual Beam
Posted in | Nanobusiness

Plasma XEI het Wetenschappelijke Schoonmakende Systeem van het 1000ste Evactron

Published on February 2, 2011 at 9:09 AM

XEI Scientific Inc, maker van het populaire Schoonmakende Systeem van het Plasma EVACTRON voor elektronenmicroscopen en andere luchtledige kamers, kondigde vandaag aan dat met de definitieve verzendingen van 2010, zij orden vervuld hebben die het totale die aantal systemen Evactron brengen aan meer dan 1.000 eenheden wereldwijd worden geleverd.

Globale Directeur van Verkoop, Tom Levesque zei „Wij van het bereiken van deze significante mijlpaal zeer trots zijn. De plasma Evactron het schoonmaken oplossing wordt in situ nu gezien als norm voor verwijdering van op koolwaterstof-gebaseerde verontreiniging in een grote verscheidenheid van vacuümsystemen rond de wereld. Aangeboden voor bijna allen maakt van elektronenmicroscopen, liegt de dubbele straal en andere weergavehulpmiddelen met schone vacuümvereisten, deze bewezen, heeft veilige technologie rendabele verontreinigingsverwijdering voor de meest veeleisende weergave en metrologietoepassingen.“ verstrekt

De Wetenschappelijke Manager van het Product XEI, Gabe Morgan, wordt geciteerd zoals het verklaren van „Evactron altijd met een waarborg gekomen is die de gebruikers beschermt tegen om het even welke schade aan gevoelige kamercomponenten zoals de detectorvensters van de Röntgenstraal. Nu, zelfs met dit significante aantal eenheden op het gebied, zijn wij trots om te zeggen dat wij nooit om het even welke die componenten herstellen of hebben moeten vervangen door het het schoonmaken Evactron proces worden beschadigd.“

Momenteel, introduceert XEI de technologie in situ voor gebruik in de Elektronenmicroscopie van de Transmissie Door middel van TEM WandT. Verder, blijven de nieuwe toepassingen waar de uiterst schone oppervlakten zoals Lithografie kritiek zijn EUV, de synthese van nieuwe nano-materialen of de verrichtingen door nano-manipulators het potentiële gebruik van de technologie uitbreiden XEI.

Last Update: 11. January 2012 07:39

Tell Us What You Think

Do you have a review, update or anything you would like to add to this news story?

Leave your feedback
Submit