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Sistema Científico da Limpeza do Plasma de XEI 1000th Evactron

Published on February 2, 2011 at 9:09 AM

XEI Inc Científico, fabricante do Sistema popular da Limpeza do Plasma de EVACTRON para microscópios electrónicos e outras câmaras de vácuo, anunciou hoje que com as expedições finais de 2010, cumpriu os pedidos que trazem o número total de sistemas de Evactron entregados a mais de 1.000 unidades no mundo inteiro.

O Director Global das Vendas, Tom Levesque disse que “Nós somos muito orgulhosos de alcançar este marco miliário significativo. A solução in situ da limpeza do plasma de Evactron é considerada agora como o padrão para a remoção da contaminação hidrocarboneto-baseada em uma grande variedade de sistemas do vácuo em todo o mundo. Oferecido para faz quase toda dos microscópios electrónicos, o feixe duplo Mente e outras ferramentas da imagem lactente com as exigências limpas do vácuo, esta provadas, tecnologia segura forneceram a remoção eficaz na redução de custos da contaminação para as aplicações de exigência da imagem lactente e da metrologia.”

O Director de Produto Científico de XEI, Gabe Morgan, é cotado como a indicação “Do Evactron veio sempre com uma garantia que protege os usuários de todo o dano aos componentes sensíveis da câmara tais como indicadores do detector do Raio X. Agora, mesmo com este número de unidades significativo no campo, nós somos orgulhosos dizer que nós nunca tivemos que reparar ou substituir todos os componentes danificados pelo processo da limpeza de Evactron.”

Actualmente, XEI está introduzindo a tecnologia in situ para o uso na Microscopia de Elétron de Transmissão por meio do TEM WandT. Mais, as novas aplicações onde as superfícies extremamente limpas são críticas como a Litografia de EUV, a síntese de nano-materiais novos ou as operações por nano-manipuladores continuam a expandir os usos potenciais da tecnologia de XEI.

Last Update: 11. January 2012 07:53

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