SEMATECH聯盟今天宣布，其2011年SEMATECH聯盟知識系列（SKS），各種公共行業的設計技術，豐富的論壇，以探索的關鍵問題，並建立業內人士的共識，藉以提升全球的知識和在關鍵領域的納米電子 ř＆ð合作會議的內容。
丹Armbrust，SEMATECH聯盟總裁兼首席執行官“，說：”我們多元化的會議都有一個共同的的目的：為了保持行業的最明智的，符合成本效益的決定可能向前移動盈利。 “這是對我們的行業比以往任何時候都更重要的走到一起，分享思想，凝聚共識，並驅動可行的解決方案。我們相信我們與我們的SKS系列最的。“
由SEMATECH聯盟及盤存主辦，今年的全球會議，專題討論會，講習班將集中在關鍵的挑戰和下一代光刻技術，材料和方法技術的發展提高晶體管和後端開發，和方法，以提高生產效率和產量。
2011年SKS公司會議包括以下內容，分組技術為重點。
光刻技術
- 先進光罩清洗車間，九月在Monterey，CA
BACUS會議同時舉行，為期一天的研討會提供一個論壇，SEMATECH聯盟成員，光罩和晶圓清洗供應商和研究人員討論技術和解決方案的進步，適用於先進光罩清洗和表面處理方面的挑戰。主題包括分30納米顆粒去除，去除分子污染，光罩檢測缺陷分析，和環境的方法來掩蓋清潔。
- 國際研討會10月17日至19日在佛羅里達州邁阿密，極端紫外線光刻技術
在極紫外光刻研討會，由SEMATECH聯盟，SELETE EUVA，IMEC的主辦成熟的超紫外線平版印刷術（EUVL）技術和基礎設施，包括來源，口罩，光學，抗拒，污染控制，以及計量，以SEMATECH的持續承諾的一部分支持極紫外光刻的試驗生產線的製造要求。
- 光刻擴展國際研討會10月20日至21日在佛羅里達州邁阿密 ，
浸泡擴展與 IMEC和SELETE和極紫外光刻研討會共設合作研討會上，SEMATECH聯盟主辦，側重於努力擴大超過 15納米半間距節點的光刻圖案。其主要重點是在圖案的過程，新興技術，提高過程控制技術。
先進技術
- 表面處理和清洗會議，3月21日至23日在德克薩斯州奧斯汀市
本次會議，其中匯集了從半導體行業的領先的研究人員和大學社區，地址先進的晶圓和掩膜清洗和表面處理技術。發言者和與會者將探討在晶圓和掩膜清洗當前的事態發展和ITRS的挑戰，包括前端的晶圓，晶圓後端，先進的面具，和環境，安全，並為 32納米節點及以後的健康問題。
- 3D使用ICS通過矽通孔，3月17日在加州聖克拉拉，設計可靠性工作坊-壓力管理
本次研討會將帶來共同來自設備製造商，電子設計自動化供應商，半導體裝配和測試服務提供商，並研發社區的代表，以探索壓力，驅動機械故障機制，其相關的測試車輛和表徵和建模方法有關通過，中間通過矽通過 3D堆疊技術。
- 計量三維互連研討會，7月在加利福尼亞州舊金山， 13
- 先進閘極堆疊技術國際研討會，秋季
今年的年度研討會上，“邏輯和存儲設備的功能書庫，”探索未來（亞 22納米節點）設備，包括矽，矽鍺 high-k/metal門棧，和III - V的高性能MOSFET的功能棧;金屬 /高k /金屬柵堆疊的存儲電容和電阻變存儲器，閃存 high-k/metal門;高性能NEM和傳感器絕緣體和金屬磁性材料和自旋為基礎的設備棧。本次研討會將有業內專家都邀請並促成的會談，主要的半導體設備製造商，設備製造商和學術界的代表組成的一個小組討論中介紹他們的最新研究。
製造
其他行業範圍內的事件
- SEMATECH聯盟研討會
Sematech和盤存的高級管理人員和經理將在日本，台灣和韓國舉行的研討會，以目前的程序更新和consortial研發 SEMATECH的模型如何加快未來的全球技術革命的例子。公開會議將有行業專家在今天的全球半導體產業的關鍵技術，製造和商業問題，並會為網絡提供的機會。會員唯一的會議將專門審查方案活動，技術轉讓和成員反饋。
- 2011年6月在日本東京，
- 2011年9月在台灣新竹
- 2011年10月在首爾，韓國
國際半導體技術藍圖（ITRS）會議
ITRS的將是在2011年全面修訂。所有章節將仔細審查，對行業的最新驅動程序和新的信息更新。 ITRS的公開會議，提供從製造商和供應商社區的機會，參與建設提供投入的行業和研究專家工作組的團隊，他們將修改未來的ITRS的技術專家和戰略家。
- 7月13日在加利福尼亞州舊金山（西與 SEMICON同時舉行）
- 12月14日在韓國漢城舉行
來源： http://www.sematech.org/