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La Tecnología del Plasma de los Instrumentos de Oxford Anuncia las Fechas para 2011 Seminarios

Published on February 17, 2011 at 7:41 AM

Después del éxito del seminario del año pasado y del programa del curso, la Tecnología del Plasma de los Instrumentos de Oxford llevará a cabo otra vez varias acciones similares este año conjuntamente con los institutos y las universidades dominantes de investigación global. Los Locutores vendrán de las universidades del ordenador principal y de varios otros institutos e industria, además de expertos del proceso y de las aplicaciones de la Tecnología del Plasma de los Instrumentos de Oxford, proporcionando a su conocimiento en profundidad del tema elegido.

Los Instrumentos de Oxford coacogen varios seminarios acertados anualmente

Th 2011 del 11-12 de marzo - Nanoelectronics: Incremento, deposición, grabando el ácido
Recibido por el Instituto de la Academia China de los Semiconductores de las Ciencias (IOS) y de Instrumentos de Oxford en Pekín

30 de junio de 2011 - sociedad de la creación del Conocimiento - del financiamiento a los resultados
Curso recibido por la Universidad de los Instrumentos de Southampton y de Oxford en la Universidad de Southampton

Th 2011 del 14-15 de julio - Nuevas Fronteras en modelar Nano del Plasma
Recibido por la Fundición Molecular, Laboratorio Nacional de Lorenzo Berkeley, CA, los E.E.U.U.

La compañía también proyecta sujetar un Seminario/un Curso en Francia, fecha para ser confirmada.

Los Programas están disponibles, y para más información sobre cada seminario y/o registrarse para un correo electrónico del lugar: plasma@oxinst.com

Los sistemas del grabado de pistas, de la deposición y del incremento de los Instrumentos de Oxford proporcionan a las soluciones de proceso para dirigir micro y de los nanómetros de los materiales para el semiconductor, optoelectrónica, MEMS y microfluidics, la capa óptica de alta calidad y muchas otras aplicaciones en micro y nanotecnología.

Last Update: 12. January 2012 18:24

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