牛津仪器等离子技术宣布 2011 个研讨会的日期

Published on February 17, 2011 at 7:41 AM

在去年的研讨会和讨论会程序之后的成功,牛津仪器等离子技术与关键研究所 & 大学一道今年再将举行几个相似的活动全球性地。 除从牛津仪器等离子技术的进程和应用专家之外报告人将来自自主机大学和一定数量的其他学院和行业,提供他们的选择的事宜的详细知识。

牛津仪器每年共同主办一定数量成功的研讨会

2011年 3月 11 12日 - Nanoelectronics : 增长,证言,铭刻
主持由半导体中国科学院学院 (IOS) & 牛津仪器在北京

2011年 6月 30日 - 知识创建合伙企业 - 从资助到结果
南安普敦大学主持的讨论会 & 牛津仪器在南安普敦大学

2011年 7月 14 15日 - 在等离子纳诺仿造的新的边境
主持由分子铸造厂,劳伦斯伯克利国家实验室,加州,美国

这家公司在法国也计划举行一次研讨会/会议,约会被确认。

程序是可用的,和关于每个研讨会的更多信息并且/或者登记安排电子邮件: plasma@oxinst.com

牛津仪器的铭刻、证言和增长系统为微型和毫微米工程半导体的材料提供处理解决方法、光电子学、 MEMS & microfluidics、优质光学涂层和许多其他应用在微型和纳米技术方面。

Last Update: 12. January 2012 19:19

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