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提供 TEM 技术的 FEI 给 CEALeti 分析 22nm 半导体材料

Published on February 22, 2011 at 7:31 PM

CEALeti 今天宣布公司达成了协议三年的分析 22nm 技术节点的以远先进的半导体材料和。 基于欧洲的 CEALeti,有其 MINATEC 校园 NanoCharacterization 平台的二个合作伙伴的, CEALiten (新的能源的新的材料) 和 CEA-INAC (Nanoscience 学院),将适用他们的在全息术和 nanobeam 衍射上的专门技术。

FEI 将提供先进的 nanobeam 衍射技术以其巨人扫描传输电子显微镜 (S/TEM),最强大这个的世界的,商业可用的显微镜。 公司将评定在半导体结构上的张力变化。

FEI Titam TEM

“这个研究将着重二个重要区域: 对全息术的使用以巨人的唯一 XFEG 电子来源改进描出掺杂物的区分和使用 nanobeam 衍射技术评定在张力和其他晶体参数上的变化”,总经理说乔治 Scholes,和 FEI 的 S/TEM 产品线副总裁。 “以巨人, FEI 是一位领导先锋在这些区,并且我们盼望成为伙伴与他们的唯一平台为描述特性和 nanoscale 的 CEALeti 在继续提前技术”。

“我们必须改进描出区分、的准确性和的处理量掺杂物为了持续支持收缩的设备维数。 并且对张力的作用的更好的了解是重要的在高性能集成电路设备的发展,当我们继续推进技术到 22nm 技术节点和以远”,指明的鲁迪 Kellner,副总统和总经理 FEI 的电子分部。

不仅由于他们强大,商业可用的显微镜,由于他们的在 nanobeam 衍射应用上的特殊专门技术根据劳伦特 Malier, CEA的 CEO Leti, “我们选择与在此三年的研究计划的 FEI 一起使用,而且。 同时,我们期望解决面对半导体行业的几个重要技术路障,当它继续推进设备范围和性能信包并且挑战在为 nanosciences 一般用于的在 nanoelectronics 和材料的描述特性”。

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