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Posted in | Nanoelectronics | Microscopy

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提供 TEM 技術的 FEI 給 CEALeti 分析 22nm 半導體材料

Published on February 22, 2011 at 7:31 PM

CEALeti 今天宣佈公司達成了協議三年的分析 22nm 技術節點的以遠先進的半導體材料和。 基於歐洲的 CEALeti,有其 MINATEC 校園 NanoCharacterization 平臺的二個合作夥伴的, CEALiten (新的能源的新的材料) 和 CEA-INAC (Nanoscience 學院),將適用他們的在全息術和 nanobeam 衍射上的專門技術。

FEI 將提供先進的 nanobeam 衍射技術以其巨人掃描傳輸電子顯微鏡 (S/TEM),最強大這個的世界的,商業可用的顯微鏡。 公司將評定在半導體結構上的張力變化。

FEI Titam TEM

「這個研究將著重二個重要區域: 對全息術的使用以巨人的唯一 XFEG 電子來源改進描出摻雜物的區分和使用 nanobeam 衍射技術評定在張力和其他晶體參數上的變化」,總經理說喬治 Scholes,和 FEI 的 S/TEM 產品線副總裁。 「以巨人, FEI 是一位領導先鋒在這些區,并且我們盼望成為夥伴與他們的唯一平臺為描述特性和 nanoscale 的 CEALeti 在繼續提前技術」。

「我們必須改進描出區分、的準確性和的處理量摻雜物為了持續支持收縮的設備維數。 并且對張力的作用的更好的瞭解是重要的在高性能集成電路設備的發展,當我們繼續推進技術到 22nm 技術節點和以遠」,指明的魯迪 Kellner,副總統和總經理 FEI 的電子分部。

不僅由於他們強大,商業可用的顯微鏡,由於他們的在 nanobeam 衍射應用上的特殊專門技術根據勞倫特 Malier, CEA的 CEO Leti, 「我們選擇與在此三年的研究計劃的 FEI 一起使用,而且。 同時,我們期望解決面對半導體行業的幾個重要技術路障,當它繼續推進設備範圍和性能信包並且挑戰在為 nanosciences 一般用於的在 nanoelectronics 和材料的描述特性」。

Last Update: 26. January 2012 15:35

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