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El Grupo de EV Pone En Marcha el Sistema de la Alineación de Máscara de EVG620HBL

Published on February 23, 2011 at 5:09 AM

EV Grupo (EVG), de cabeza surtidor de fulminante-vinculación y litografía equipo para avanzado semiconductor y empaquetando, MEMS, silicio-en-aislador (SOI) y mercados emergentes de la nanotecnología, anunció hoy la última adición a su cartera de los productos creados para optimizar la manufactura de los diodos electroluminosos de la alto-brillantez (Hb-LED), de los semiconductores compuestos y de la electrónica de potencia.

El nuevo EVG620HBL automatizó completo emplear del sistema de la alineación de máscara la plataforma campo-probada del alineador de la máscara de EVG, agregando una fuente de alta intensidad (UV) y cinco estaciones del magazín - ofrendas considerablemente más que competitivas de la luz ultravioleta - para activar la fabricación contínua de dispositivos. Como consecuencia, el EVG620HBL entrega la producción incomparable de los fulminantes de hasta 165 seis-pulgadas por la hora (hasta 220 fulminantes por hora en el primer modo de impresión) con la exactitud y el rendimiento más altos de la alineación de la industria.

El Grupo de EV Despliega la Cartera de Productos Para Dirigir el Mercado De rápido crecimiento de HB-LED Con el Lanzamiento del Sistema de la Alineación de Máscara de EVG620HBL.

Según la firma de estudios de mercado Global Information, Inc. (Farmington, Conec.), el consumo global de la alta brillantez LED (Hb-LED) continuará crecer rápidamente durante la década próxima, a partir de $10,09 mil millones en 2010 a $46,05 mil millones en 2020. Los programas pilotos Dominantes incluirán incremento explosivo en aplicaciones del alumbrado de estado sólido y general, así como señalización, las visualizaciones profesionales, y las señales estacionarias (del no-vehículo). Para cubrir esta demanda creciente, los fabricantes de HB-LED deben ramp rápidamente hasta una capacidad de producción más alta, así como optimizan sus procesos de fabricación para asegurar los rendimientos más altos - que eleve su necesidad de las soluciones de fabricación automatizadas con el más barato de la propiedad.

Como con su EVG560HBL dedicado automatizó el sistema de la fulminante-vinculación, introducido el pasado julio, EVG desarrolló el alineador de EVG620HBL para dirigir estas necesidades. EVG no es nuevo a este mercado - sus bonders y alineadores de la máscara están siendo desplegados por cuatro de los cinco fabricantes mayores superiores de HB-LED. El Edificio en este éxito, la compañía creó el 620HBL en respuesta a la demanda de los clientes para un sistema de la alineación de máscara dedicado a cumplir los requisitos del rendimiento y de la producción de estos dispositivos.

Otra característica dominante del EVG620HBL es la disponibilidad de los microscopios receta-controlados especiales cuyo espectro de la iluminación se optimiza para asegurar el mejor contraste del modelo con los diversos materiales del fulminante y de la capa, incluyendo los materiales avanzados tales del substrato como el zafiro, el carburo de silicio (Sic), el nitruro de aluminio (AlN), el metal y de cerámica.

“Nuestros esfuerzos en curso y el enfoque del R&D en la innovación en la fabricación del equipo y la ingeniería de proceso están permitiendo a EVG entregar constantemente las soluciones avanzadas, en grandes cantidades de la fabricación que nuestros clientes preveen,” Paul declarado Lindner, director ejecutivo de la tecnología del Grupo de EV. “Apenas el mes pasado, uno de los fabricantes de cabeza de HB-LED pidió un bonder de EVG560HBL, y el EVG620HBL es el último resultado de nuestros esfuerzos en curso alrededor de permitir a fabricantes de HB-LED desarrollar los dispositivos de un rendimiento más eficiente, más de poco costo y más alto para cubrir sus demandas de clientes. Observamos hacia adelante a hacer otras incursiones con este último ofrecimiento, que también ofrece la manipulación de la alto-exactitud y la alineación de fulminantes frágiles o deformados.”

Fuente: www.evgroup.com

Last Update: 12. January 2012 18:24

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