Site Sponsors
  • Park Systems - Manufacturer of a complete range of AFM solutions
  • Strem Chemicals - Nanomaterials for R&D
  • Oxford Instruments Nanoanalysis - X-Max Large Area Analytical EDS SDD
Posted in | Bionanotechnology

Конформные Плазменные Допинг для трехмерных транзисторов

Published on March 28, 2011 at 3:05 AM

По Камерон Чай

Прикладные Centura Conforma системы, недавно запущен Applied Materials, особенности Конформная Плазменные допинг (ДСП технологий.

Эта технология позволяет дизайнерам разрабатывать трехмерные конструкции в логике и микросхем памяти. Он предлагает высокие дозы, энергосберегающих легирования на месте уборки в один вакуумный отсек для последовательного допинг пропускную способность. Ее чистый, чистейший допинг сохраняет присущие дизайну.

Сундар Рамамурти, вице-президент и генеральный менеджер Front End продуктов бизнес-подразделения в Applied Materials говорит особенности позволяют его использовать как в начальной и больших объемов производства, и оба плоских и трехмерных структур.

Технология компании предлагает нежно, энергосберегающих процедура, которая способствует последовательной допинг более сложных трехмерных чипов. Она включает в себя встроенный плазменный предварительно очистите RTP отжига в единой вакуумной системы комплексных последовательностей. Это позволит обрабатываемых пластин, чтобы избавиться от опасных отходов.

Решение подходит для таких приложений, как finFET логики, вертикальный ворот DRAM и вертикальных массивов флэш-памяти NAND.

Источник: http://www.appliedmaterials.com/

Last Update: 3. October 2011 15:34

Tell Us What You Think

Do you have a review, update or anything you would like to add to this news story?

Leave your feedback
Submit