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保形等離子摻雜三維晶體管

Published on March 28, 2011 at 3:05 AM

由Cameron灣仔

森特拉構象的應用系統,應用材料公司最近推出,具有保形電漿摻雜(CPD技術。

這項技術可幫助設計人員開發三維設計的邏輯和記憶芯片。它提供了高劑量的,一致的吞吐量摻雜原位在一個真空艙清潔能源高效使用興奮劑。它的清潔,無雜質摻雜保留其固有的設計。

孫大信 Ramamurthy,前端產品業務單位在應用材料公司副總裁兼總經理說的功能允許其使用,在初始和大批量生產和平面和立體結構。

該公司的技術提供了一個溫和,高效節能的過程,有利於較複雜的三維芯片一致興奮劑。它採用嵌入式等離子預清洗與 RTP退火相同的真空系統內的綜合序列。這使得經過處理的晶圓,以消除有害殘留物。

該解決方案是適合如FinFET器件的邏輯,垂直門 DRAM和垂直NAND快閃記憶體陣列應用。

來源: http://www.appliedmaterials.com/

Last Update: 9. October 2011 00:58

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