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Posted in | Nanofabrication

开始的 Picosun 制造新颖的 PEALD 系统

Published on April 10, 2011 at 7:12 PM

Picosun Oy,科技目前进步水平基本层证言系统基于芬兰的全球制造商 (ALD),生成了小说,创新等离子的生产在高度先进,客户证明的 “离子自由的”远程等离子来源基础上的改进的 ALD (PEALD) 系统。

多种兴奋种类例如与零的充电的氧气、氮气和氢根可以被生成扩展 ALD 进程化学的范围 - 特别是金属,并且金属氮化物薄膜可以存款在与被激活的种类的低温 -,并且这个远程来源启用处理脆弱的基体和甚而精美设备结构,不用等离子故障由于非常低离子计数,但是高易反应的种类流出。

新颖的 Picoplasma 来源系统 (*) 在现有的 SUNALE ALD 反应器或全部的 PEALD 系统可以被挂接可以被安装作为容易的实施一个紧凑,小的脚印证言部件,快速维护和所有权的低成本。 这个系统可能通过集成它充分地也自动化到有卡式磁带对卡式磁带装载的 Picoplatform 字符串工具通过真空负荷锁定。 快速符合和等离子部件的稳定的功率传输启用与快速处理速度和非常好的影片均一 (厚度与 Al2O3 的 STD 1.3% 的高在深沟槽的产量在硅,存款从 TMA 和氧气基) 和正形性至 AR 48 :1. 简而言之,小说 Picosplasma 工具增加 Picosun 的现有的 ALD 系统的已经最高级通用性、 customizability 和 upscalability。

ALD 是由 Picosun 委员会委员图奥莫 Suntola 博士发明的在芬兰在 70 年代初。 Picosun Oy 是科技目前进步水平 ALD 系统芬兰,全球性地运行的制造商微型和纳米技术应用的,表示连续性对超出三十年 ALD 反应器设计。 Picosun 的 SUNALE ALD 鲜明的姿态行业使用进程工具,并且在四个大陆和这家公司间的顶部研究组织有再经销商在 Ca. 30 国家(地区)。 Picosun Oy 在 Espoo 根据,其制造设备位于 Kirkkonummi 和美国总部在底特律,密执安。 Picosun Oy 是斯蒂芬行业公司 Oy 的部分。

(*) 专利审理多个的

Last Update: 11. January 2012 07:38

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