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Posted in | Nanofabrication

EV 단은 2010명의 유럽인 Nanoimprint 기술 제품 혁신 포상을 수신합니다

Published on April 11, 2011 at 10:40 AM

독립적인 시장 조사 단체에서 2010명의 유럽인 Nanoimprint 기술 제품 혁신 포상을 수신했다는 것을 EV 단 (EVG), MEMS 의 나노 과학과 반도체 시장을 위한 웨이퍼 접합과 석판인쇄술 장비의 주요한 공급자는, 오늘, Frost & Sullivan 알렸습니다. 고급 포상은 nanoimprinting 해결책을 가진 산업 필요를 다루기에 있는 EVG의 성취를 인식합니다.

Frost & Sullivan는 최종 사용자에 대한 기술, 산업 실시, 해결책 포트홀리로 (NIL), 성취 미래 시장 필요 및 충격의 전진을 포함하여 몇몇 종류를 통해 다중 nanoimprint 석판인쇄술 공급자를 평가한 포괄적인 연구 연구 결과를 실행했습니다. 각 종류에 있는 최고 점수 중 수신된 EVG는 가장 가까운 경쟁자 작업 바지 보다는 현저하게 높이 평가했습니다.

"웨이퍼 접합, 3D 내부 연락 및 MEMS 제조에 있는 시장 지도력으로 공구, EV 단에는 그것의 nanoimprinting 해결책으로 synergize 다른 지역에 있는 광대한 전문 기술이," 말했습니다 Frost & Sullivan 연구 분석가, 케네스 Chua를 있습니다. "회사는 반도체 산업의 필요를 성취하는 입증된 해결책을 제공하기 위하여 알려집니다. 그것의 없음 장비는 이 유산을 계속하고 그것의 최종 사용자에 초래합니다 값이 싸고, 높 처리량 및 믿을 수 있는 해결책을."

Frost & Sullivan에 따르면, 없음에 있는 경쟁의 다량은 없음을 주류 반도체 제작을 위해 실행 가능해던 시키거나 미래 자료 저장 매체 (하드 디스크 드라이브에 있는 비트에 의하여 모방되는 매체)를 위해 모방에 집중되었습니다. 대조적으로, EVG에 의하여 중요한 고성장 시장에, 광학과 제조자가 EVG의 없음 기술로부터 성공적으로 오늘 혜택을 받고 있는 microfluidics를 포함하여 집중하기 위하여 그것의 전문 기술 및 경험이 레버리지를 도입했습니다.

더욱, EVG는 그것의 없음 기술의 기능 그리고 성과를 강화하는 것을 계속하는 때, 정기적으로 그밖 시장을 위한 그것의 잠재력을 평가합니다--그리고 없음이 자료 기억 장치와 주류 반도체 제조자의 필요에 더 적합해 되면 일 경우에는 그것의 개발 전략을 재편성하는 준비됩니다. 이것은 자외선 지원한 nanoimprinting를 사용하여 직경에 있는 12.5 nm 만큼, 그것의 EVG620, EVG6200 및 EVG770 없음 시스템과 호환이 되는 작은 특징을 모방하는 기능 인 EVG에서 늦은 발달에서 분명합니다.

논평해서에 대하여 포상, 토마스 Glinsner 박사는 없음 기술 혁신에 있는 질 그리고 EVG의 걸출한 공적에, 뿐 아니라 시장 수요를 그것의 개발 노력을 맞추기에 있는 회사의 전반적인 성공에, EV 단의 제품 관리의 헤드는 말했습니다, "nanoimprint 석판인쇄술에 있는 경험의 십년간에, 이 포상은입니다 성약."

Nanoimprinting는 기계적인 방법에 의해 기질에 패턴을 일으키기 위하여 이용됩니다. 부드러움 우표를 생성하기 위하여 주된 찍는 우표가 이용되다 그것에 의하여, 회사의 소유 연약한 우표 기술이 EVG의 자외선 지원한 없음에 의하여 (UV-NIL) 뿐 아니라 최신 돋을새김 프로세스는 레버리지를 도입합니다. 이 방법은 감소된 기계적인 접촉 때문에 주된 우표의 일생을 증가시키고 그것의 고객을 소유권의 비용에 있는 전반적인 감소로부터 혜택을 받는 가능하게 합니다.

Last Update: 11. January 2012 07:48

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