Posted in | Nanolithography

直写光刻技术平台上开发的微流体装置原型

Published on April 16, 2011 at 3:15 AM

由Cameron湾仔

来自海德堡的技术μPG101是一个用户友好的和符合成本效益的微码型发生器,适合直接编写应用程序和小批量的掩模制造。

它是理想的二维和三维微结构基板上最多4x4inches快速采样。一微米的特点,它可以揭示高分辨率的设计,还设有一个地址电网测量的40nm。

该平台已安装了意法半导​​体的摩尔研究实验室位于Agrate布里安扎,以帮助创建微流体器件的应用,如医疗诊断和实验室的芯片样品。

海德堡仪器制造精密无掩膜光刻平台。该系统适用于直接写作和微机电系统,微机电,纳米技术,ASICS,液晶,等离子显示器,微光学工业大学和光掩膜程序。

来源: http://www.st.com

Last Update: 9. October 2011 09:36

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